[发明专利]一种衡量天线罩对天线阵列测向性能影响的方法

权利要求书

1.一种衡量天线罩对天线阵列测向性能影响的方法，其特征在于，通过与测向性能具有正相关系的带天线罩天线阵列系统中两两天线的相位不一致性，来衡量天线罩影响内部天线阵列测向精度，具体为：

步骤1，确定天线工作频率、各个天线口面场数据、天线阵列位置坐标、各天线水平及俯仰角度；

步骤2，建立天线罩结构的几何模型，设置各层厚度及介电常数，并对天线罩模型进行网格剖分；

步骤3，确定天线罩外远区场的观察位置，扫描角范围及扫描步长；

步骤4，利用远场积分公式，计算天线阵列中各天线在罩外远区场产生的电场幅值和相位；

步骤5，对天线阵列中任意天线，计算其带罩远区场电场相位和不带罩远区场电场相位的差值，作为该天线的插入相位移；

步骤6，对天线阵列中任意两天线，计算两者插入相位移的差值，作为该两天线的相位误差；

步骤7，根据步骤6中得到的相位误差，计算相位误差的平均值；对天线阵列中任意两天线，该两天线的相位误差与相位误差平均值的差值，即为带天线罩的天线阵列系统中两两天线的相位不一致性，从而以此衡量系统的测向精度。

2.根据权利要求1所述的一种衡量天线罩对天线阵列测向性能影响的方法，其特征在于，步骤3中天线罩外远区场，距开口面处的距离为r，其中，r>D²/λ，D为天线口面直径，λ为工作波长。

3.根据权利要求1所述的一种衡量天线罩对天线阵列测向性能影响的方法，其特征在于，步骤1中确定天线口面场数据有两种方式：一种采用电磁仿真软件进行计算，另一种采用天线辐射公式直接进行口面场数据计算。

4.根据权利要求1所述的一种衡量天线罩对天线阵列测向性能影响的方法，其特征在于，步骤2中使用CATIA软件建立天线罩结构的几何模型，并使用PATRAN软件对模型进行网格剖分。

5.根据权利要求1所述的一种衡量天线罩对天线阵列测向性能影响的方法，其特征在于，利用口面积分-表面积分方法计算天线阵列中各天线在罩外远区场产生的电场幅值和相位。