[发明专利]滤波片缺陷检测系统及其检测方法有效

专利信息
申请号: 201510852687.6 申请日: 2015-11-30
公开(公告)号: CN106814083B 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 诸庆;谷新 申请(专利权)人: 宁波舜宇光电信息有限公司
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95
代理公司: 33244 宁波理文知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 罗京;孟湘明
地址: 315400 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 滤波 缺陷 检测 系统 及其 方法
【权利要求书】:

1.一视觉检测系统的一光学滤波片检测方法,其特征在于,包括如下步骤:

(s100)开始将多个光学滤波片放置于一视觉检测设备的一移动平台;

(s200)调整一相机单元垂直方向的位置,同时调节一光学单元的投射位置,并保存一系统参数;

(s300)标定所述视觉检测系统的一视觉校正参数,并保存;

(s400)设置所述光学滤波片检测的一工艺参数、一滤波片阵列、一设备运行参数;

(s500)启动所述视觉检测设备,将放置于所述移动平台的所述光学滤波片逐一地运行至一检测位置;

(s600)进行一视觉检测,并分析和记录测试未通过的位置,在检测完成后根据记录位置标记出缺陷光学滤波片,其中所述视觉检测包括如下步骤:

(s601)获取一图像;

(s602)获得有效检测区域图像;

(s603)检测所述有效检测区域图像;

(s604)对检测区域进行动态分割;

(s605)判断是否有剩余区域,若『是』则进行步骤(s606),若『否』则进行步骤(s611);

(s606)进行闭操作;

(s607)再次判断是否有剩余区域,若『是』则进行步骤(s608),若『否』则进行步骤(s611);

(s608)最小外接圆拟合,半径参数提取;

(s609)对比工艺参数,若『不通过』则进行步骤(s610),若『通过』则进行步骤(s611);

(s610)判定为不合格产品;以及

(s611)判定为合格产品;以及

(s700)所述视觉检测完成后,所述移动平台退回启始位置;

其中步骤(s608),包括一滤波片缺陷量化比对方法,其是透过一多边形最小外接圆的计算方法以提取所述最小外接圆拟合,和半径参数;其中所述多边形最小外接圆的计算方法,其包括步骤如下:

(s608.1)提取缺陷区域各顶点坐标,多边形拟合;

(s608.2)选定任意一点作为基准点g_base;

(s608.3)计算其他点与该点的距离;

(s608.4)选取距离最大点计算最小外接圆外径r和圆心坐标;

(s608.5)计算其他点与外接圆圆心的距离Ri;

(s608.6)提取最大距离Rmax;

(s608.7)若Rmax>r,则进行步骤(s608.8),若Rmax≤r,则进行步骤(s608.10);

(s608.8)构建三角形;

(s608.9)计算所述三角形的最小外接圆直径r和圆心坐标,接着进行(步骤s608.5);以及

(s608.10)获取直径Dmax

2.根据权利要求1所述的光学滤波片检测方法,其中步骤(s200),所述相机单元为一高像素相机。

3.根据权利要求2所述的光学滤波片检测方法,其中调整所述高像素相机,使所述光学滤波片处于一聚焦位置,并调整所述高像素相机的曝光时间和增益,使所述光学滤波片成像清晰。

4.根据权利要求3所述的光学滤波片检测方法,其中步骤(s200),所述光学单元为一低角度环形光源。

5.根据权利要求4所述的光学滤波片检测方法,其中调节所述低角度环形光源,使其产生的一光源均匀的照射在所述光学滤波片上。

6.根据权利要求2所述的光学滤波片检测方法,其中步骤(s200),所述系统参数为通过所述高像素相机的芯片大小和一镜头单元的放大倍率计出像素尺寸和实际尺寸的比例系数。

7.根据权利要求1所述的光学滤波片检测方法,其中步骤(s300),所述视觉校正参数是基于最小二乘线性拟合的系数标定方法取得。

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