[发明专利]气压测量装置及方法、调焦调平装置及光刻机设备有效
申请号: | 201510856576.2 | 申请日: | 2015-11-30 |
公开(公告)号: | CN106814545B | 公开(公告)日: | 2018-08-24 |
发明(设计)人: | 王丽;王海江 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;G01L13/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气压 测量 装置 方法 调焦 平装 光刻 设备 | ||
1.一种气压测量装置,其特征在于,包括:
连接至供气装置的参考管路和多个测量管路;
位于所述参考管路一端的参考管路气嘴,所述参考管路气嘴设置于一参考平面上方,用于向所述参考平面喷射气体;
位于每个所述测量管路一端的分支测量管路气嘴,多个所述分支测量管路气嘴并排设置于同一测量平面上方,用于向所述测量平面喷射气体;
连接于所述参考管路和多个所述测量管路之间的气压计;
连接至吸气装置的多个吸气管路及位于每个所述吸气管路一端的分支吸气管路气嘴,多个所述分支吸气管路气嘴并排设置于所述测量平面上方,并且,一个所述分支测量管路气嘴周围设置至少两个所述分支吸气管路气嘴,用于吸走所述测量管路周围的气体。
2.如权利要求1所述的气压测量装置,其特征在于,每个所述测量管路上均设置有一个测量管路限流器和一个测量管路可调气管。
3.如权利要求1所述的气压测量装置,其特征在于,所述参考管路上设置有参考管路限流器和参考管路可调气管。
4.如权利要求1所述的气压测量装置,其特征在于,每个所述吸气管路上均设置有一个流量计、一个吸气管路限流器、一个气阀和至少一个吸气管路可调气管。
5.如权利要求4所述的气压测量装置,其特征在于,所述吸气管路可调气管包括水平向吸气管路可调气管和垂直向吸气管路可调气管;每个所述吸气管路上均设置有一个所述水平向吸气管路可调气管和一个所述垂直向吸气管路可调气管。
6.如权利要求1所述的气压测量装置,其特征在于,所述吸气装置的吸气口连接有一吸气管路气压计,所述吸气管路气压计分别与每个所述吸气管路连接。
7.如权利要求1所述的气压测量装置,其特征在于,所述供气装置通过中心管路依次连接有供气装置限流器和多孔缓冲器,所述多孔缓冲器分别连接所述参考管路和每个所述测量管路。
8.如权利要求1所述的气压测量装置,其特征在于,每个所述测量管路的两侧对称设置有两个所述吸气管路。
9.如权利要求1所述的气压测量装置,其特征在于,每个所述测量管路的周围呈环状设置有至少两个所述吸气管路。
10.一种气压测量方法,其特征在于,采用如权利要求1至9中任意一项所述的气压测量装置进行气压测量时,通过在每个所述分支测量管路气嘴周围设置至少两个所述分支吸气管路气嘴,吸走所述分支测量管路气嘴周围的气体。
11.一种调焦调平装置,其特征在于,包括硅片和如权利要求1至9中任意一项所述的气压测量装置。
12.一种包括如权利要求11所述的调焦调平装置的光刻机设备,其特征在于,还包括投影物镜、支撑架、信号处理器、上位机、电机和工件台;所述气压测量装置固定设置在所述支撑架上,所述支撑架设置于所述工件台的上方,所述硅片设置于所述工件台上,所述气压测量装置测得的气压差通过所述信号处理器处理后传至所述上位机,所述上位机根据处理后的数据得到所述硅片的位置信息,再控制所述电机驱动所述工件台运动,以使所述硅片处于所述投影物镜的焦平面内。
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