[发明专利]红外滤光片镀膜的工艺方法、装置及得到的红外滤光片

权利要求书

1.一种红外滤光片镀膜的装置，其特征在于，所述装置包括依次连接的进样腔室(100)、镀膜单元以及能够进出所述镀膜单元的进样台(400)，为装置提供电子的外接电源；

所述镀膜单元包括依次连接的高折射率材料镀膜腔室(200)和低折射率材料镀膜腔室(300)；或者依次连接的低折射率材料镀膜腔室(300)和高折射率材料镀膜腔室(200)；

所述高折射率材料镀膜腔室(200)内具有相对设置的高折射率材料靶材(203)和用于氩气进入的布气口，所述高折射率材料靶材接通电源后呈负电压；

所述低折射率材料镀膜腔室(300)内具有相对设置的高折射率材料靶材(303)和用于氩气进入的布气口，所述低折射率材料靶材接通电源后呈负电压；

所述进样台(400)具有样品放置架(401)，用于将样品以待镀膜位置暴露的状态固定在进样台上；

所述腔室、样品放置架接通电源后成正电压。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述进样台(400)的样品放置架(401)上设置有用于固定样品的夹具以及能够遮盖样品待镀膜位置的挡片；所述挡片具有打开状态和遮盖状态；在所述打开状态，样品待镀膜位置暴露；在所述遮盖状态，样品待镀膜位置被遮盖。

3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述进样室(100)设置有门阀(101)，用于进样台(400)的进出；

所述高折射率材料镀膜腔室(200)设置有第一矩形阀(201)，用于进样台(400)在进样室(100)和高折射率材料镀膜腔室(200)之间穿梭；

所述高折射率材料镀膜腔室(200)设置有第二矩形阀(202)，用于进样台(400)在高折射率材料镀膜腔室(200)和低折射率材料镀膜腔室(300)之间穿梭。

4.如权利要求1～3之一所述的装置，其特征在于，所述高折射率材料靶材为锗靶材，优选纯度为99.999％以上的锗靶材；

所述低折射率材料靶材为硫化锌靶材，优选纯度为99.999％以上的硫化锌靶材。

5.一种红外滤光片镀膜的工艺方法，其特征在于，所述方法采用权利要求1～4之一所述的装置进行，具体包括如下步骤：

(1)安装待镀膜样品至进样台(400)，并暴露待镀膜位置；

(2)将安装待镀膜样品的进样台(400)推入进样腔室(100)，将进样腔室(100)、高折射率材料镀膜腔室(200)和低折射率材料镀膜腔室(300)抽真空；

(2)将进样台(400)送入高折射率材料镀膜腔室(200)，关闭门阀(101)，接通高折射率材料靶材，进行高折射率材料的磁控溅射，控制高折射率材料的镀膜厚度；根据镀膜膜系选择磁控溅射在样品上的正反面；

(3)将进样台(400)送入低折射率材料镀膜腔室(300)，接通低折射率材料靶材，进行低折射率材料的磁控溅射，控制低折射率材料的镀膜厚度；根据镀膜膜系选择磁控溅射在样品上的正反面；

(4)将进样台(400)送回高折射率材料镀膜腔室(200)，接通高折射率材料靶材，进行高折射率材料的磁控溅射，控制高折射率材料的镀膜厚度；根据镀膜膜系选择磁控溅射在样品上的正反面；

(5)根据镀膜膜系重复步骤(3)和步骤(4)，得到双面镀膜的红外滤光片；

(6)降温后，恢复大气压，打开门阀(101)取出样品，得到双面镀膜的红外滤光片成品。

6.如权利要求5所述的工艺方法，其特征在于，所述“根据镀膜膜系选择磁控溅射在样品上的正反面”的方式为：接通需要磁控溅射样品一面的靶材电源，断开不需要磁控溅射样品一面的靶材电源；或者，接通两侧的靶材电源，采用挡片遮挡不需要磁控溅射样品一面的靶材电源；

优选地，所述“根据镀膜膜系选择磁控溅射在样品上的正反面”的方式为：接通两侧的靶材电源，采用挡片遮挡不需要磁控溅射样品一面的靶材电源。