[发明专利]四甲基氢氧化铵显影废液再生系统和再生方法

权利要求书

1.四甲基氢氧化铵显影废液再生系统，其特征在于：

包括若干送料泵、中和分离装置、吸附装置、阳离子交换装置、阴离子交换装置和净化处理装置，所述中和分离装置、吸附装置、阳离子交换装置、阴离子交换装置和净化处理装置各至少设有一组，依次通过带控制阀的料管连接，所述再生系统用于四甲基氢氧化铵显影废液再生的方法按如下步骤进行：

（1）酸中和-分离：向储存四甲基氢氧化铵废液的中和分离装置中加入一定浓度比例的酸溶液或通入酸性气体，随着酸溶液或酸性气体不断的加入，四甲基氢氧化铵被中和生产四甲基季铵盐，溶液中的pH值也随之降低，pH值的降低使光刻胶杂质产生沉淀析出，再通过离心过滤器过滤分离不溶解的光刻胶沉淀物，去除光刻胶沉淀物；

（2）脱色-过滤处理：步骤（1）处理后的四甲基季铵盐溶液输入吸附装置中进行脱色处理，所述吸附装置出料端设有微滤或陶瓷过滤器，用于去除残留的光刻胶沉淀物和颗粒物质；

（3）离子交换树脂净化提纯：经过步骤（2）处理后的四甲基季铵盐溶液先经阴离子交换树脂装置进行还原处理，还原为四甲基氢氧化铵溶液，再经过阳离子交换树脂装置进行浓缩净化处理，或者直接经过阳离子交换树脂装置进行浓缩净化处理，然后采用不同浓度的酸性洗脱剂将四甲基氢氧化铵水溶液由质量分数2-6%浓缩到15-25%，从而溶液中的光刻胶有机杂质进一步去除，最后再将阳离子交换树脂装置浓缩净化处理后的四甲基季铵盐溶液输入到阴离子交换树脂装置还原为可以在半导体行业中循环使用的四甲基氢氧化铵显影液；

或者采用不同浓度的碱性洗脱剂将四甲基氢氧化铵水溶液由质量分数2-6%浓缩到15-25%，从而溶液中的光刻胶有机杂质进一步去除，获得可以在半导体行业中循环使用的四甲基氢氧化铵显影液；

（4）二次净化处理：步骤（3）获得的四甲基氢氧化铵显影液输送到净化处理装置中再次进行二次净化提纯处理，所述净化处理装置采用螯合阳离子交换树脂。

2.根据权利要求1所述的四甲基氢氧化铵显影废液再生系统，其特征在于：步骤（1）中所述酸溶液为盐酸溶液、硫酸溶液、磷酸溶液和甲磺酸溶液中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的四甲基氢氧化铵显影废液再生系统，其特征在于：步骤（3）中所述阴离子交换树脂装置采用氢氧根型的阴离子交换树脂，所述阳离子交换树脂装置采用氢离子型的阳离子交换树脂。

4.根据权利要求1所述的四甲基氢氧化铵显影废液再生系统，其特征在于：步骤（3）中所述酸性洗脱剂为盐酸、磷酸、硫酸和甲磺酸中的任意一种；所述碱性洗脱剂为氢氧化钠、氢氧化钾和氨水中的任意一种。

5.根据权利要求1所述的四甲基氢氧化铵显影废液再生系统，其特征在于：步骤（4）中所述螯合阳离子交换树脂为漂莱特C100、漂莱特C100E、拜尔TP208和拜尔TP2000中的任意一种。

6.根据权利要求1所述的四甲基氢氧化铵显影废液再生系统，其特征在于：步骤（2）中所述吸附装置中填充的填料为木质活性炭或活性白木，所述微滤或陶瓷过滤器的过滤精度为0.1μm。