[发明专利]一种基于导模共振的滤波器及其制作方法在审
申请号: | 201510867323.5 | 申请日: | 2015-12-01 |
公开(公告)号: | CN105372737A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 谢继龙;贾宏志;周伟;沈新荣;曹君杰;郑拓;王辽;彭焉廷;陈明明;姜士昕;沈璐;尤贝;李子骏 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吴宝根 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 共振 滤波器 及其 制作方法 | ||
1.一种基于导模共振的滤波器,其特征在于,由上部光栅层、薄膜层和下部石英基底两层组成,薄膜层的折射率高于基底层和光栅层,光栅层为由光敏性材料曝光形成的周期性的结构。
2.根据权利要求1所述基于导模共振的滤波器的制作方法,其特征在于,具体包括如下步骤:
1)、在厚度为d3,折射率为n3的石英基底上镀一层折射率为n2,厚度为d2的薄膜层,再在薄膜层上制作一层厚度为d1的薄膜,薄膜为折射率n1的光敏性材料,此光敏性材料的折射率会根据光照而改变;
2)在同一紫外激光光源下经过相位掩模板对光敏性材料进行曝光,再通过控制曝光时间和光源强度,得到所需的填充系数f和刻槽深度,并且形成周期性的结构,为光栅层,且曝光后的光栅层折射率为nh,其中填充系数f为光栅刻槽宽度和光栅周期比值。
3.根据权利要求2所述基于导模共振的滤波器的制作方法,其特征在于,所述光栅层的平均折射率nav>max(n3、n空气),n空气为空气的折射率,并且nav=[f×nh2+(1-f)×n12]1/2。
4.根据权利要求3所述基于导模共振的滤波器的制作方法,其特征在于,所述nav、d1、d2取满足导模共振条件,d1、d2满足抗反射条件。
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