[发明专利]一种适用于缸套的QPQ处理工艺在审
申请号: | 201510868679.0 | 申请日: | 2015-12-02 |
公开(公告)号: | CN105441865A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 张一帆 | 申请(专利权)人: | 成都锦汇科技有限公司 |
主分类号: | C23C8/58 | 分类号: | C23C8/58 |
代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 | 代理人: | 邹翠 |
地址: | 610000 四川省成都市锦江区*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适用于 qpq 处理 工艺 | ||
1.一种适用于缸套的QPQ处理工艺,其特征在于:工艺步骤如下:
1)清洗
在水基清洗剂的作用下,超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落;
2)预热
在280-320℃的温度下,在空气炉中对工件加热;
3)渗氮
将预热后的工件置于550-600℃的盐浴中,处理90min;
4)氧化和抛光
在AB1盐浴中氧化后,用清水漂洗2次,机械抛光;
5)二次氧化
在AB1盐浴中再次氧化,氧化完成后用冷水清洗,自然干燥后浸油。
2.根据权利要求1所述的一种适用于缸套的QPQ处理工艺,其特征在于:所述的盐浴需要连续通入压缩空气,通气量为400~450L/h。
3.根据权利要求1所述的一种适用于缸套的QPQ处理工艺,其特征在于:所述的渗氮盐浴中含CNO-的质量百分数为36-38%。
4.根据权利要求1所述的一种适用于缸套的QPQ处理工艺,其特征在于:所述的盐要缓慢分批加入。
5.根据权利要求1所述的一种适用于缸套的QPQ处理工艺,其特征在于:所述的氧化是指在350-400℃,AB1盐浴中氧化10-20min。
6.根据权利要求1所述的一种适用于缸套的QPQ处理工艺,其特征在于:所述的二次氧化是指在350-400℃,AB1盐浴中氧化5-10min。
7.根据权利要求1所述的一种适用于缸套的QPQ处理工艺,其特征在于:所述的超声波清洗的振动频率范围在60~100kHz,功率密度设定在0.6-0.8W/C。
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