[发明专利]多掩模对准系统和方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求申请日为2014年10月17日的美国临时申请 No.62/065,291的优先权，其在此通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及用于由若干较小面积阴影掩模形成有效的较大面积阴 影掩模的系统和方法。

背景技术

在阴影掩模气相沉积领域，存在利用越来越大面积的阴影掩模的 趋势，该阴影掩模包括与从沉积源待沉积至衬底上的材料的期望的图 案相对应的一个或更多个开口。但是，随着形成越来越大面积尺寸的 阴影掩模，问题在于避免定位横跨阴影掩模尺寸的开口中的运行错误。 换言之，随着形成越来越大面积尺寸的阴影掩模，问题在于，在用于 将材料图案沉积在衬底上的、横跨阴影掩模尺寸的开口之间越来越难 维持准确的尺寸稳定性。

发明内容

现在将在下面编号的条款中描述和阐述本发明的各种优选和非限 制性的示例或方面：

条款1：多阴影掩模对准系统包括：载体，载体包括多个贯穿载 体的孔径。每个孔径有与其相关联的：组合框和阴影掩模，组合框和 阴影掩模被定位在载体的第一侧，框支撑阴影掩模与孔径对准；对准 系统，对准系统被定位在载体与第一侧相反的第二侧，并且被操作用 于相对于载体调整组合框和阴影掩模的位置；和控制系统，控制系统 包括与对准系统联接的可编程控制器，控制器被操作用于基于控制系 统确定的组合框和阴影掩模的第一组对准特征中的每一个的位置来控 制对准系统以精确或精准地对准组合框和阴影掩模。

条款2：条款1的对准系统，其中控制系统可包括联接至控制器 的数码相机。该数码相机可被定位于组合框和阴影掩模的与载体相反 的一侧。该数码相机可被操作用于获取包括第一组对准特征的数码图 像并将其转递至控制器，控制器可被操作用于处理该数码图像，并用 于基于所处理的数码图像，使对准系统精确或精准地对准组合框和阴 影掩模的位置，以使得第一组对准特征被对准至控制器的存储器中所 存储的预定的坐标组。

条款3：条款1或条款2的对准系统可进一步的包括对准衬底， 其被定位于组合框和阴影掩模的与载体相反的一侧。该对准衬底可包 括第二组对准特征。控制系统可包括数码相机，数码相机联接至控制 器并被定位于对准衬底的与组合框和阴影掩模相反的一侧。该数码相 机可被操作用于获取包括第一组和第二组对准特征的数码图像并将其 转递至控制器，控制器可用于处理上述数码图像，并用于基于所处理 的数码图像，使对准系统精确或精准地对准组合框和阴影掩模的位置， 以对准第一组和第二组对准特征。

条款4：条款1至3中的任一条款的对准系统，其中载体可以包 括第二组对准特征。对于每个孔径，控制系统可以包括多个光源-光接 收器对。每个光源-光接收器对可在其之间限定光路。在每个光路中， 第一组对准特征的一个对准特征和第二组对准特征的一个对准特征可 被定位。控制器可被操作用于处理光接收器的输出，且基于该光接收 器的所处理的输出，用于使得对准系统精确或精准地对准组合框和阴 影掩模的位置，以对准每个光路中的第一组对准特征的一个对准特征 和第二组对准特征的一个对准特征。

条款5：条款1至4中的任一条款的对准系统，其中：对准系统 可被操作用于调整多个组合框和阴影掩模的位置；和/或控制器可被操 作用于使得对准系统对准多个组合框和阴影掩模。

条款6：条款1至5中的任一条款的对准系统，其中对准系统可 被操作用于在两个或更多个X、Y和θ方向上调整组合框和阴影掩模的 位置。X和Y方向可平行于载体的第一侧。θ方向可绕正交于载体第一 侧的z方向旋转。

条款7：条款1至6中的任一条款的对准系统，其中框可以包括 第一组对准特征。

条款8：条款1至7中的任一条款的对准系统，其中每个对准特 征可以是下列之一：视觉标记或孔。

条款9：条款1至8中的任一条款的对准系统，其中对准衬底可 以是透明的。