[发明专利]一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品

权利要求书

1.一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

A、坯体成型，向坯体表面施面釉；

B、喷墨印花；

C、印花后喷墨打印下陷墨水，所述喷墨打印下陷墨水工序中使用的下陷墨水含有以下质量百分比的组分：V₂O₅ 20-30％、Bi₂O₃ 50-60％、Ba₂CO₃ 7-8％、ZnO3-4％、SiO₂ 3-4％、Al₂O₃ 3.5-4％、(K₂O+Na₂O) 1.5-2.5％；

D、淋生料厚抛釉；

E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉，烧成获得成品；

其中，所述生料厚抛釉工序中使用的厚抛釉，其由以下重量百分比的组分组成：厚抛釉粉：71.64％，羧甲基纤维素钠：0.14％，三聚磷酸钠：0.27％，水：27.94％，其中，所述厚抛釉粉含有以下重量百分比的组分：SiO₂：51.98％，Al₂O₃：12.19％，Fe₂O₃：0.10％，TiO₂：0.01％，CaO：8.83％，MgO：3.09％，K₂O：3.29％，Na₂O：1.67％，ZrO₂：0.20％，ZnO：8.10％。

2.根据权利要求1所述的一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，其特征在于：所述步骤C中按照前步骤的印花装饰图案设计下陷墨水的喷墨。

3.根据权利要求1所述的一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，其特征在于：所述步骤E烧成后还包括抛磨和切割工序。

4.根据权利要求1所述的一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法，其特征在于：所述步骤A施面釉前对坯体先进行干燥处理。

5.一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖，其特征在于：采用如权利要求1-4任一项所述的方法制备。