[发明专利]X射线组件及涂层

权利要求书

1.一种形成X射线组件的方法，包括：

提供由第一材料形成并且包括第一端的阳极基座(74，174)，所述阳极基座(74，174)还包括：在具有第一横截面尺寸的第一部分(84，184)与具有大于所述第一横截面尺寸的第二横截面尺寸的第二部分(86，186)之间的阳极基座锥形部(88，188)、以及在所述第二部分(86，186)与具有大于所述第二横截面尺寸的第三横截面尺寸的第三部分(192)之间的第二锥形部(190)，其中所述第一端被定位在所述第一部分(84)处；

在所述阳极基座(74，174)的第一表面上方沉积不同于所述第一材料的第二材料(180a-c)以形成所述阳极基座(74，174)的外部涂覆部分，其中所述沉积的第二材料(180a-c)具有在所述第二锥形部(190)上方沉积的第二材料；以及

形成靶标(82，182a-c)，所述靶标定义在所述阳极基座(74，174)的所述第一端上方的X射线发射面(48，148)；

其中所述外部涂覆部分被配置成使得一些后向散射的电子没有行进越过所述外部涂覆部分。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括先于形成所述阳极基座的所述外部涂覆部分来耦合在所述阳极基座的所述第一端处定义X射线发射面的靶标，所述靶标包括所述第二材料。

3.根据权利要求2所述的方法，其中在所述第一表面上方沉积所述第二材料包括在所述靶标上方沉积所述第二材料，并且所述方法还包括去除被定位在所述靶标的所述X射线发射面上方的所沉积的第二材料的至少部分。

4.根据权利要求1所述的方法，其中在所述第一表面上方沉积所述第二材料包括在所述第一端上方沉积所述第二材料以形成在所述阳极基座的所述第一端上方定义X射线发射面的靶标。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述外部涂覆部分从第一界限向第二界限延伸，所述外部涂覆部分被配置成使得从所述阳极的靶标后向散射的大部分电子没有行进越过所述外部涂覆部分。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述第一界限被定义在所述第一端处。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述外部涂覆部分从第一界限向第二界限延伸，所述外部涂覆部分被配置成使得从所述阳极的靶标后向散射的反弹少于三次的大部分电子没有行进越过所述外部涂覆部分。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述阳极基座的所述外部涂覆部分包括所述第一部分、所述阳极基座锥形部和所述第二部分。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述阳极基座的所述外部涂覆部分包括所述第一部分、所述阳极基座锥形部、所述第二部分、以及接近所述第二部分的第二锥形部。

10.根据权利要求1所述的方法，其中沉积所述第二材料包括在所述阳极基座的所述第一表面上电镀贵金属。

11.根据权利要求1所述的方法，其中沉积所述第二材料包括在所述阳极基座的所述第一表面上热喷涂、等离子喷涂、超音速火焰喷涂或者冷喷涂贵金属或难熔金属。

12.根据权利要求1所述的方法，其中沉积所述第二材料包括在所述阳极基座的所述第一表面上化学气相沉积或者物理气相沉积贵金属或难熔金属。

13.根据权利要求1所述的方法，还包括以下中的一项或多项：

热等静压所沉积的第二材料；

机加工所沉积的第二材料；

精整所沉积的第二材料；以及

去除所沉积的第二材料的至少部分。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述热等静压、所述机加工、所述精整以及所述去除所沉积的第二材料的至少部分中的所述一项或多项形成所述靶标。