[发明专利]光掩膜版用石英玻璃基板的退火工艺

说明书

技术领域

本发明涉及石英玻璃领域，特别是涉及一种光掩膜版用石英玻璃基板的退火工艺。

背景技术

石英玻璃以其高纯、高的光透过和低的热膨胀等一系列优良的理化性能而成为一种重要的基础材料，广泛用于微电子、光纤通讯、激光、传感技术等高新技术领域。

石英玻璃在生成及冷却过程中由于温差会产生热应力，应力的存在说明玻璃结构还未达到稳定状态，应力及其不均匀分布会大大降低石英玻璃的光学均匀性、机械强度和结构稳定性。光掩膜版用石英玻璃基板在加工制造过程中需要进行退火处理，但现有的退火工艺不能很好的消除应力作用，从而影响成品玻璃基板的使用性能。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种光掩膜版用石英玻璃基板的退火工艺，能够解决石英玻璃基板存在的上述问题。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种光掩膜版用石英玻璃基板的退火工艺，包括如下步骤：

（1）加热：将石英玻璃基板置于程序加热炉内，以两端式升温速率快速升温至1150～1200℃；

（2）时效处理：将步骤（1）中升温后的石英玻璃基板恒温保持一定时间；

（3）降温：将步骤（2）中时效处理后的石英玻璃程序降温至一定温度，再关闭程序加热炉的电源，随炉冷却至室温。

在本发明一个较佳实施例中，所述步骤（1）中，所述两段式升温速率为：先以300～350℃/h的速率从室温升温至800℃，再以450～500℃/h的速率从800℃升温至1150～1200℃。

在本发明一个较佳实施例中，所述步骤（2）中，所述恒温保持时间为15～20天。

在本发明一个较佳实施例中，所述步骤（3）中，所述程序降温方式为：先以1～2℃/min的速率降温至1000℃，再以2～4℃/min的速率降温至850℃。

本发明的有益效果是：本发明一种光掩膜版用石英玻璃基板的退火工艺，可以有效消除石英玻璃片在制备过程中由于温差产生的热应力，从而改善其光学均匀性、机械强度和结构稳定性，提高石英玻璃片的质量和应用性能。

具体实施方式

下面结合对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

本发明实施例包括：

实施例1

直径40cm、厚度15cm的合成石英玻璃片的退火工艺，包括如下步骤：

（1）加热：将石英玻璃基板置于程序加热炉内，先以300～350℃/h的速率从室温升温至800℃，再以450～500℃/h的速率从800℃升温至1150～1200℃；

（2）时效处理：将步骤（1）中升温后的石英玻璃基板恒温保持15～20天；

（3）降温：将步骤（2）中时效处理后的石英玻璃先以1～2℃/min的速率程序降温至1000℃，再以2～4℃/min的速率程序降温至850℃，然后关闭程序加热炉的电源，是石英玻璃随炉冷却至室温，完成退火处理。

实施例2

直径40cm、厚度15cm的合成石英玻璃片的退火工艺，包括如下步骤：

（1）加热：将石英玻璃基板置于程序加热炉内，先以300～350℃/h的速率从室温升温至800℃，再以450～500℃/h的速率从800℃升温至1150～1200℃；

（2）时效处理：将步骤（1）中升温后的石英玻璃基板恒温保持15～20天；

（3）降温：将步骤（2）中时效处理后的石英玻璃先以1～2℃/min的速率程序降温至1000℃，再以2～4℃/min的速率程序降温至850℃，然后关闭程序加热炉的电源，是石英玻璃随炉冷却至室温，完成退火处理。

以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。