[发明专利]太阳电池的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510880678.8 申请日: 2015-12-03
公开(公告)号: CN105489664A 公开(公告)日: 2016-04-13
发明(设计)人: 铁剑锐;杜永超;许军;肖志斌;王鑫;梁存宝;孙希鹏 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十八研究所;天津恒电空间电源有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 刘昕
地址: 300384 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 太阳电池 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于太阳电池制备工艺技术领域,尤其是涉及一种太阳电池的制 备方法。

背景技术

重量轻,转换效率高,抗辐照性能好一直是砷化镓太阳电池追求的目标。 通过结构设计可以提高转换效率和抗辐照性能,采用化学或机械方法减薄衬 底可以降低电池重量,提高太阳电池阵质量比功率,大大减少发射重量,降 低发射成本。

目前空间用砷化镓太阳电池下电极普遍采用全覆盖式,该形式下电极虽 然可以与太阳电池背面形成良好的接触,但全覆盖式下电极反而使翘曲问题 更加严重,而且不能完全满足目前太阳电池越来越薄,重量轻,和可靠性高 的发展趋势。

所以,现有技术急需一种结构简单、工艺快捷、制造工艺效率提升的太 阳电池,而这种电池的关键技术难点是如何在下电极功能的有效改进,也就 是说,如何优化设计出一种有关下电极的制作工艺,使得太阳电池结构简单, 工作效率高、且杜绝翘曲带来的负面效果。成为本领域技术人员攻关难题。

发明内容

有鉴于此,本发明旨在提供工艺简单的下电极的制作工艺,其应用在太 阳能电池上而得到一种结构简单、抗翘曲的太阳电池。

为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:

一种太阳电池的制备方法,所述太阳电池包括有上电极、外延片和下电 极,所述上电极和下电极分别紧密贴合设置在所述外延片的上、下端面上, 其制备方法包括如下步骤:

S1:光刻上电极

在所述外延片的入光面涂光刻胶,涂完胶后将电池烘烤,后采用光刻机 对外延片涂胶面进行曝光、显影、冲洗和干燥;

S2:蒸镀上电极

将所述外延片光刻面朝向蒸发源装入镀膜机中,进行真空蒸镀,然后将 蒸镀好上电极的外延片进行去胶;

S3:蒸镀下电极

将蒸镀完上电极的外延片放入镀膜机内,背面朝向蒸发源,进行真空蒸 镀,之后在刚才的蒸镀面进行加厚蒸镀步骤,得到:加厚金属Ag2,厚度为: 3.0μm-5μm;

最终完成所述下电极3的制作过程。

在步骤3之后还包括:步骤S4:划片、蒸镀减反射膜

将蒸镀完下电极的外延片放入自动划片机中,上电极面朝上,将外延片 划成各规格的电池,然后腐蚀CAP层,在电池入光面蒸镀TiOx/Al2O3膜系。

所述S1步骤中,烘烤的过程为:烘箱中烘烤,烘烤温度范围为80℃~90 ℃,烘烤时间为10min±3min;

曝光时间为8s~10s;

显影60s~90s,待显影完全后用清洗机冲洗6~8次,最后甩干机甩干或 氮气吹干。

在所述S2步骤中,将蒸镀好上电极的外延片进行去胶具体为:将外延 片放入丙酮中浸泡不少于20min,取出后采用自动去胶机去胶,采用自动清 洗机冲洗6~8次,再用甩干机甩干,完成去掉光刻胶的过程。

所述S2步骤中,进行真空蒸镀依次得到:Au,50nm±7.5nm;Ge,100nm ±15nm;Ag,5μm±750nm;Au,50nm±7.5nm;

所述S3步骤中,进行真空蒸镀依次得到:Au,50nm±7.5nm;Ge,100nm ±15nm;Ag1,1μm±0.15μm;所述加厚金属的厚度为3.4μm-4.6μm。

所述S3步骤中,所述加厚蒸镀步骤具体为:包括有掩模版,将所述外 延片连同掩模版一同放入镀膜机中,掩模版面朝向蒸发源;所述掩模版为类 圆形,圆形区域中设置有通槽,金属Ag2沉积在所述通槽处。

所述加厚金属Ag2的位置与焊点位置相重叠,且加厚Ag2区域的面积大 于等于焊点面积。

步骤3后得到下电极整体形状呈一个类圆状,其中类圆状的最上端设置 有一定位直边,以经过类圆状的圆心并且垂直于定位直角边的直线为Y轴, 以经过类圆状的圆心并且垂直Y轴的直线为X轴,以类圆状的圆心为零点; 所述若干块状加厚金属沿X轴或Y轴对称设置;

所述块状加厚金属中穿过X轴方向设置的金属块宽度与远离X轴方向 设置的金属块的宽度的比值为(1.5-3):1。

所述块状加厚金属中穿过X轴方向设置的金属块宽度为12mm,远离X 轴方向设置的金属块的宽度的为4.6mm或6.6mm。

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