[发明专利]保护电解槽侧壁的系统与方法

权利要求书

1.一种电解槽，包括：

阳极；

与阳极间隔开的阴极；

与阳极和阴极液体连通的熔融电解液槽浴，其中该熔融电解液槽浴含有包括至少一种槽浴成分的槽浴化学组成；

电解槽本体，该电解槽本体具有：底部和围绕该底部的至少一个侧壁，其中该电解槽本体被配置为保持熔融电解液槽浴，其中所述侧壁基本上由所述至少一种槽浴成分组成，所述侧壁进一步包括：

第一侧壁部分，配置为安置到侧壁的热绝缘封装上以及保持电解液；和

第二侧壁部分，配置为从电解槽本体的底部向上延伸，

其中第二侧壁部分与第一侧壁部分纵向间隔，使得第一侧壁部分、第二侧壁部分以及第一部分和第二部分之间的基底限定出沟槽，所述沟槽具有10mm到不超过500mm的沟槽宽度；

其中该沟槽被配置为接收保护沉积物和保持该保护沉积物与电解槽底部分离；

其中该保护沉积物被配置为从沟槽中溶解到熔融电解液槽浴中，使得该熔融电解液槽浴包含一定水平的所述至少一种槽浴成分，其足以在熔融电解液槽浴中维持所述第一侧壁部分和第二侧壁部分。

2.一种电解槽，包括：

阳极；

与阳极间隔开的阴极；

与阳极和阴极液体连通的熔融电解液槽浴，其中该熔融电解液槽浴含有包括至少一种槽浴成分的槽浴化学组成；

电解槽本体，该电解槽本体具有：底部和围绕该底部的至少一个侧壁，其中该电解槽本体被配置为保持熔融电解液槽浴，其中所述侧壁基本上由所述至少一种槽浴成分组成，所述侧壁进一步包括：

第一侧壁部分，配置为安置到侧壁的热绝缘封装上以及保持电解液；和

第二侧壁部分，配置为从电解槽本体的底部向上延伸，

其中第二侧壁部分与第一侧壁部分纵向间隔，使得第一侧壁部分、第二侧壁部分以及第一部分和第二部分之间的基底限定出沟槽；

其中该第二侧壁部分在向上的位置相对于电解槽底部延伸，使得第二侧壁部分与第一侧壁部分重叠，以提供整个电解槽壁高度的20％到80％的沟槽重叠；和

其中该槽被配置为接收保护沉积物和保持该保护沉积物与电解槽底部分离。

3.如权利要求2所述的电解槽，其中该保护沉积物被配置为从沟槽溶解到熔融电解液槽浴中，使得熔融电解液槽浴包含一定水平的该至少一种槽浴组分，其足以在熔融电解液槽浴中维持所述第一侧壁部分和第二侧壁部分。

4.如权利要求2所述的电解槽，进一步包括：

引导部件，其中该引导部件位于第一侧壁部分与第二侧壁部分之间，

此外其中该引导部件在沟槽上方侧向间隔，使得该引导部件被配置为引导保护沉积物进入沟槽内。

5.如权利要求2所述的电解槽，其中所述第二侧壁部分被配置为相对于热绝缘封装与第一侧壁部分联合，

此外其中所述第二侧壁部分被配置为从侧壁以阶梯构造延伸，和

其中该第二侧壁部分包括界定出阶梯部分的上表面和侧表面。

6.如权利要求5所述的电解槽，其中该第二侧壁部分的上表面是平坦表面。

7.如权利要求5所述的电解槽，其中该侧壁部分的上表面是倾斜表面。

8.如权利要求7所述的电解槽，其中与第一侧壁部分结合的上表面被配置为共同起作用并提供凹陷区域，该凹陷区域被配置为在其中保持所述保护沉积物。

9.如权利要求2所述的电解槽，其中该保护沉积物包含所述至少一种槽浴成分。

10.如权利要求2所述的电解槽，其中该沟槽由进料块界定，该进料块由选自槽浴化学组成中的成分的材料构成，其中通过该槽浴化学组成，该进料块被维持在熔融盐槽浴中。

11.如权利要求2所述的电解槽，进一步包括进料器，该进料器被配置为在沟槽中提供保护沉积物。