[发明专利]一种用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管有效

专利信息
申请号: 201510881949.1 申请日: 2015-12-04
公开(公告)号: CN106848810B 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 唐书凯;多丽萍;金玉奇;桑凤亭;王元虎;于海军;李留成;王增强;李国富;汪健;曹靖;康元福 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: H01S3/02 分类号: H01S3/02
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 马驰
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 hf df 化学 激光 马赫数 低温 列阵 喷管
【权利要求书】:

1.一种用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:

列阵喷管由两个以上平行设置的喷管组装单元构成,两个喷管组装单元之间形成喷管单元,喷管单元为典型的二维狭缝拉法尔喷管;喷管单元入口端面向激光器燃烧室,喷管单元出口端面向激光器光腔;喷管单元出口扩张段末端的两侧喷管组装单元壁面上各开有一排氢气喷孔,在氢气喷孔与喉道之间的出口扩张段两侧喷管组装单元壁面上各开有一排主氦喷孔,在喷管单元入口端两侧喷管组装单元壁面上各自开有一排燃烧室氦喷孔,面向激光器光腔一侧的喷管组装单元的壁面为一平面,平面作为相邻两个喷管单元之间的泄压平台,泄压平台上开有两排以上的副氦喷孔;

于喷管组装单元内部设有氢气通道、主氦通道、副氦通道、燃烧室氦通道、冷却水通道;氢气通道与氢气气源相连,氢气喷孔与氢气通道相连通;主氦通道、副氦通道、燃烧室氦通道分别与氦气气源相连,主氦喷孔与主氦通道相连通,副氦喷孔与副氦通道相连通,燃烧室氦喷孔与燃烧室氦通道相连通。

2.根据权利要求1所述的用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:喷管单元喉道高度在0.15-0.30mm之间,其入口收缩段和出口扩张段的型面尺寸由流体力学软件计算得到,出口高度为9.5mm。

3.根据权利要求1所述的用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:喷管组装单元上氢气喷孔孔距为5mm,氢气喷孔的中心连线与喉道狭缝平行;

主氦喷孔孔距为5mm,主氦喷孔中心连线与喉道狭缝平行。

4.根据权利要求1或3所述的用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:氢气喷孔的喉道部分为圆孔,直径0.3mm,出口端为圆形锥孔,出口处直径为1mm;

主氦喷孔的喉道部分为圆孔,直径0.3mm,出口端为圆形锥孔,出口处直径为1mm。

5.根据权利要求1或3所述的用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:主氦喷孔在气流流动方向上刚好处于氢气喷孔的正后方,即沿气流流动方向依次为主氦喷孔、氢气喷孔,主氦喷孔距氢气喷孔7mm。

6.根据权利要求1所述的一种用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:泄压平台宽度为10mm。

7.根据权利要求1所述的一种用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:副氦喷孔可以为两排或三排以上,副氦喷孔孔距为5mm,副氦喷孔中心连线与喉道狭缝平行;

副氦喷孔为直孔,直径在0.2-0.3mm范围内。

8.根据权利要求1所述的一种用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:燃烧室氦喷孔距喉道3-5mm;

燃烧室氦喷孔孔距为5mm,燃烧室氦的中心连线与喉道狭缝平行;

燃烧室氦喷孔为直孔,直径为0.5mm。

9.根据权利要求1所述的用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:列阵喷管整体可以是一体化加工制作;也可以是先制作系列喷管组装单元,然后组装完成。

10.根据权利要求1所述的用于HF/DF化学激光的高马赫数低温列阵喷管,其特征在于:喷管组装单元主体为金属铜,表面进行镀镍处理。

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