[发明专利]一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法

权利要求书

1.一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法，其特征在于：包括以下步骤，

（1）铜片预处理：

将铜片依次放入到无水丙酮、无水乙醇和去离子水溶液中，进行超声清洗，每次清洗时间为10~20min；

依次使用5000目砂纸、铝抛光液对经过上述处理过的铜片进行机械抛光处理；

（2）电沉积反应：

将经过步骤(1)处理的铜片与商用阳极氧化铝模板连接在一起，以铜片为阴极，铂电极为阳极，以镍离子溶液作为电解液，电解电流设为5~10mA，反应时间设为30~60min；

上述电解完成后，取出铜片，将铜片放入2~4M的NaOH溶液中以刻蚀掉氧化铝模板，刻蚀时间为6~12小时，刻蚀温度为室温；

将经过上述刻蚀过程后的表面为镍纳米线的铜片用去离子水清洗干净，室温下干燥备用；

（3）CVD化学蒸镀法

将经过步骤（2）后的铜片放入派瑞林涂覆设备，涂覆材料选择parylene-N、parylene-C和parylene-D中的任一种。

2.根据权利要求1所述的一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法，其特征在于：使用夹具将铜片与阳极氧化铝模板连接在一起。

3.根据权利要求2所述的一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法，其特征在于：所述夹具包括通过螺栓连接的上夹板（1）和下夹板（2），所述多孔玻璃（4）、阳极氧化铝模板（5）和铜片（6）由上至下排列在上夹板（1）和下夹板（2）之间，上夹板（1）和下夹板（2）通过螺栓（3）压紧，铜片（6）上设置有导线（7）。

4.根据权利要求1所述的一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法，其特征在于：所述步骤（2）中的镍离子溶液成分为：NiSO₄300~350g/L，NiCl₂·6H₂O50~100g/L，H₃BO₃400~500g/L。

5.根据权利要求1所述的一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法，其特征在于：所述步骤（3）中派瑞林涂覆设备型号为DACS-LAB。

6.根据权利要求5所述的一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法，其特征在于：选用派瑞林涂覆设备中的自动运行选项进行蒸镀。

7.根据权利要求1~6任一所述的一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法，其特征在于：通过控制放入设备的派瑞林聚合物的量来控制派瑞林薄膜的厚度。