[发明专利]提升材料生长产能和改善均匀性的样品托盘

权利要求书

1.一种提升材料生长产能和改善均匀性的样品托盘，包括样品托盘本体，其特征在于：所述样品托盘本体上端面的选定区域内密集分布有两个以上第一片槽，而所述样品托盘本体上端面上除所述选定区域之外的其余区域内还分布有至少一第二片槽，所述第一片槽的直径为4英寸、6英寸或8英寸，所述第二片槽的直径为2英寸或4英寸，且所述第一片槽的直径大于第二片槽的直径。

2.根据权利要求1所述的样品托盘，其特征在于：所述样品托盘本体上端面上分布有两个以上第二片槽。

3.根据权利要求1或2所述的样品托盘，其特征在于：所述第一片槽、第二片槽的片槽深度为0.2～2mm。

4.根据权利要求1所述的样品托盘，其特征在于：相邻两个第一片槽之间的间隔区域内分布有至少一个第二片槽。

5.根据权利要求4所述的样品托盘，其特征在于：相邻两个第一片槽之间的间隔区域内密集分布有两个以上第二片槽。

6.根据权利要求1所述的样品托盘，其特征在于：所述样品托盘本体上端面上离散分布有两个以上第二片槽。

7.根据权利要求1所述的样品托盘，其特征在于：三个以上第一片槽密集排布于所述样品托盘本体上端面上并呈圆环形布局。

8.根据权利要求7所述的样品托盘，其特征在于：至少一个第二片槽分布与该三个以上第一片槽围合形成的区域内。

9.根据权利要求1所述的样品托盘，其特征在于：所述样品托盘设置在MOCVD、HVPE、PECVD、ALD或MBE薄膜生长设备内。