[发明专利]量子点彩膜基板的制作方法

权利要求书

1.一种量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供衬底基板(11)，在所述衬底基板(11)上形成黑色矩阵(12)，所述黑色矩阵(12)在衬底基板(11)上围出数个红色子像素区域、数个绿色子像素区域及数个蓝色子像素区域；

步骤2、提供第一分散液(31)及第二分散液(32)；所述第一分散液(31)包含红色量子点(311)、红色染料分子(312)、聚合物及溶剂，所述第二分散液(32)液包含绿色量子点(321)、绿色染料分子(322)、聚合物及溶剂；

步骤3、在所述衬底基板(11)上的红色子像素区域、绿色子像素区域内分别涂布第一分散液(31)、第二分散液(32)，加热，使第一、二分散液(31、32)内的溶剂挥发，在溶剂挥发过程中，第一、二分散液(31、32)中的红、绿色量子点(311、321)倾向在上层聚集，而红、绿色染料分子(312、322)倾向在下层聚集，从而形成量子点-染料相分离的双层结构的薄膜；

步骤4、对所述薄膜进行干燥，完全干燥后，得到分别位于所述衬底基板(11)上红、绿色子像素区域内的红、绿色量子点滤光膜(131、132)；所述红、绿色量子点滤光膜(131、132)具有双层结构，上层分别含有红、绿色量子点(311、321)，下层分别含有红、绿色染料分子(312、322)；从而得到包含红、绿色量子点滤光膜(131、132)的彩膜层(13)；

步骤5、在所述彩膜层(13)上形成电极层(15)、配向膜层(16)，完成量子点彩膜基板的制作。

2.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤1中，在所述衬底基板(11)上形成的黑色矩阵(12)的厚度为1～3μm。

3.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述红、绿色量子点(311、321)的粒径为3～10nm，所述红、绿色量子点(311、321)在光激发下分别发出红、绿光，所述红、绿色量子点(311、321)包括PbSe量子点、CdSe量子点、(CdSe)ZnS量子点、(CuInS2)ZnS量子点及Au量子点中的一种或多种；

所述红、绿色量子点(311、321)分别在所述第一、二分散液(31、32)中的浓度为0.5～10mg/mL。

4.如权利要求3所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述红、绿色量子点(311、321)的表面具有一层修饰分子以对其进行包裹修饰，所述修饰分子为十八烯酸、嘧啶、三辛基氧膦或十二烷基硫醇。

5.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述红、绿色染料分子(312、322)为偶氮类、蒽醌类、氧杂蒽、二恶嗪或三苯代甲烷类染料；

所述红、绿色染料分子(312、322)分别在所述第一、二分散液(31、32)中的浓度为0.1～10mg/mL。

6.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一、二分散液(31、32)中的聚合物为聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯、聚苯乙烯、聚碳酸脂、聚N,N'-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺或聚4,4'-双[N-(1-萘基)-N-苯氨基]联苯；

所述第一、二分散液(31、32)中聚合物的含量为0.1～10wt％。

7.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一、二分散液(31、32)中的溶剂为三氯甲烷、氯苯、丙酮、甲苯、己烷、吡啶、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺或四氢呋喃。

8.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤3中，对第一、二分散液(31、32)的涂布方法为旋涂、狭缝滴涂或喷墨打印。

9.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤3中，加热温度为90～180℃，加热时间为2～15min。

10.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤4中还包括在所述彩膜层(13)上形成一层保护层(14)；所述保护层(14)的材料为氮化硅、氧化硅或有机透明材料。