[发明专利]光学膜及其制作方法

权利要求书

1.一种光学膜，其特征在于，包括：

一第一基材，所述第一基材具有一顶面以及一底面，其中所述顶面为平坦的表面，且所述底面为粗糙的表面；

多个第一粒子，掺杂散布在所述第一基材内，所述第一粒子于所述第一基材中所占的重量百分比为0.1至1；

一第二基材，黏附于所述第一基材的所述底面下，所述第二基材具有平坦的表面；以及

多个第二粒子，掺杂散布在所述第二基材内，所述第二粒子于所述第二基材中所占的重量百分比为0.1至1；

所述第一基材与所述第二基材的材料分别包括聚二甲基硅氧烷，所述第一基材与所述第二基材的透明度分别大于95%。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一基材与所述第二基材分别为有机硅化合物，且所述第一基材与所述第二基材的折射率范围分别为1.4至1.6。

3.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一基材的所述底面具有一粗糙结构。

4.根据权利要求3所述的光学膜，其特征在于，所述粗糙结构的高低差范围为5微米至10微米。

5.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，还包括多个第三粒子，设置于所述第一基材与所述第二基材之间。

6.根据权利要求5所述的光学膜，其特征在于，所述第三粒子的粒径范围为1微米至20微米。

7.根据权利要求5所述的光学膜，其特征在于，所述第三粒子于所述第一基材的所述底面的含量范围为0.0001克/平方厘米至0.001克/平方厘米，且所述第三粒子的折射率范围分别为1.4至1.6，其中所述第三粒子的材料包括氧化硅。

8.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一粒子与所述第二粒子的粒径范围分别为0.01微米至7微米。

9.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一粒子与所述第二粒子分别独立地选自由以下氧化物所组成的群组：第2族氧化物、第4族氧化物、第13族氧化物及第14族氧化物。

10.根据权利要求9所述的光学膜，其特征在于，所述第一粒子与所述第二粒子分别独立地包括二至四种氧化物，且所述二至四种氧化物分别为不同族元素所构成的氧化物。

11.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一粒子的折射率范围落在1.4～1.9与2.3～2.5之间，而所述第二粒子的折射率范围落在1.4～1.9与2.3～2.5之间。

12.一种光学膜的制作方法，其特征在于，包括：

提供一第一溶液；

将多个第一粒子掺杂至所述第一溶液中，并使所述第一粒子均匀散布于所述第一溶液中，其中所述第一溶液呈一胶态；

将掺杂有所述第一粒子的所述第一溶液置于一第一承载件上，使所述第一溶液固化以成为一第一基材，并且所述第一基材的其中一表面具有粗糙结构，其中具有所述粗糙结构的所述表面定义为所述第一基材的一底面；

使所述第一基材与所述第一承载件分离；

提供一第二溶液；

将多个第二粒子掺杂至所述第二溶液中，并使所述第二粒子均匀散布于所述第二溶液中，其中所述第二溶液呈一胶态；

将掺杂有所述第二粒子的所述第二溶液置于一第二承载件上，使所述第二溶液逐渐固化以成为一第二基材，其中所述第二承载件具有一平坦的表面，且所述第二基材具有平坦的表面；

在所述第二基材完全固化以前，将所述第一基材置于所述第二基材上，并使所述第一基材的所述底面与所述第二基材相接触；

使所述第二基材完全固化，并与所述第一基材构成一光学膜；

使所述光学膜与所述第二承载件分离。