[发明专利]彩膜基板的制作方法及液晶显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供衬底基板(10)，在所述衬底基板(10)上形成黑色矩阵(40)，所述黑色矩阵(40)在衬底基板(10)上围出数个红子像素区域(41)、数个绿色子像素区域(42)、数个青色子像素区域(43)、及数个蓝色子像素区域(44)；

步骤2、在所述衬底基板(10)上的红色子像素区域(41)、绿色子像素区域(42)内分别形成红色滤光膜(511)、及绿色滤光膜(521)；

步骤3、在所述衬底基板(10)上的红色子像素区域(41)内形成红色量子点膜(512)，在所述衬底基板(10)上的绿色子像素区域(42)、及青色子像素区域(43)内形成绿色量子点膜(522)；

经所述步骤2-3后，得到位于所述衬底基板(11)上的彩膜层(50)，所述彩膜层包括分别对应数个红、绿、青、蓝色子像素区域(41、42、43、44)的数个红、绿、青、蓝色滤光层(51、52、53、54)；

所述红色滤光层(51)包含一红色滤光膜(511)、及位于所述红色滤光膜(511)上的红色量子点膜(512)；所述绿色滤光层(52)包含一绿色滤光膜(521)、及位于所述绿色滤光膜(521)上的绿色量子点膜(522)；所述青色滤光层(53)包含一绿色量子点膜(522)；所述蓝色滤光层(54)不包含任何材料或者包含一透明材料膜。

2.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤1中，在所述衬底基板(10)上形成的黑色矩阵(40)的厚度为1～3μm。

3.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤2中，通过光刻制程、或喷墨打印制程形成红色滤光膜(511)、及绿色滤光膜(521)；所述步骤3中，通过光刻制程、或喷墨打印制程形成红色量子点膜(512)、及绿色量子点膜(522)。

4.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤2或3中，还包括在所述衬底基板(10)上的蓝色子像素区域(44)内形成一层透明材料膜；所述蓝色滤光层(54)包含位于所述蓝色子像素区域(44)内的透明材料膜。

5.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述红色量子点膜(512)在光激发下发出波峰为620～640nm、半波宽为30～40nm的红光；所述绿色量子点膜(522)在光激发下发出波峰为520～540nm、半波宽为30～40nm的绿光；所述红色滤光膜(511)对波长在620～780nm区间内的光的穿透率为95.8％以上，对波长在430～570nm区间内的光的穿透率为0.2％以下；所述绿色滤光膜(521)对波长在486～560nm区间内的光的穿透率为90％以上，对波长在640～730nm区间内的光的穿透率为50％以下。