[发明专利]曝光装置及元件制造方法

权利要求书

1.一种液浸曝光装置，透过投影光学系统将曝光用光照射在基板上，其特征在于具备：

嘴构件，该嘴构件具有供曝光用光通过的开口、液体供应口和与该基板的表面对向地配置的液体回收口，

一边进行从该液体供应口的液体供应和从该液体回收口的液体回收，一边用液浸曝光用液体在该基板的表面的一部分形成液浸区域，

该基板透过该液浸区域被曝光，

作为该液浸曝光用液体，使用功能液，

该功能液为碳酸气水。

2.根据权利要求1所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该功能液防止与该功能液接触的构件发生静电。

3.根据权利要求1所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该功能液对与该功能液接触的构件施以除电。

4.根据权利要求2所述的液浸曝光装置，其特征在于其中与该功能液接触的构件包含该嘴构件、与该嘴构件连接的流路形成构件、该投影光学系统中的最靠近像面侧的光学元件、以及以可移动的方式保持该基板而移动的基板载台中的至少任一个。

5.根据权利要求4所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该功能液与该基板载台的上面接触。

6.根据权利要求4所述的液浸曝光装置，其特征在于其中在该基板载台上设置有基准构件，

在测量处理中，在该基准构件上形成液浸区域。

7.根据权利要求6所述的液浸曝光装置，其特征在于其中具备检测该基板上的对准标记的第1对准系统，

在该基准构件上具有被该第1对准系统检测的基准标记。

8.根据权利要求4所述的液浸曝光装置，其特征在于其中在该基板载台上设置有光测量部，

在测量处理中，在该光测量部上形成液浸区域。

9.根据权利要求8所述的液浸曝光装置，其特征在于其中使用了该光测量部的测量处理包含空间像测量。

10.根据权利要求8所述的液浸曝光装置，其特征在于其中使用了该光测量部的测量处理包含照度测量。

11.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的液浸曝光装置，其特征在于其中还具备测量该液浸曝光用液体的性质及成分中的至少任一方的测量装置。

12.根据权利要求11所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该测量装置测量从该液体供应口供应的该液浸曝光用液体的性质及成分中的至少任一方。

13.根据权利要求11所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该测量装置测量从该液体回收口回收的该液浸曝光用液体的性质及成分中的至少任一方。

14.根据权利要求11所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该测量装置包含比电阻计。

15.根据权利要求11所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该测量装置包含微粒子测量计。

16.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的液浸曝光装置，其特征在于其中还具备测量该液浸曝光用液体的比电阻值的比电阻计。

17.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的液浸曝光装置，其特征在于其中还具备测量该液浸曝光用液体中的异物的量的微粒子测量计。

18.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的液浸曝光装置，其特征在于其中还具备与该液浸曝光用液体的流路连接的比电阻计。

19.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的液浸曝光装置，其特征在于其中还具备与该液浸曝光用液体的流路连接的微粒子测量计。

20.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该液体供应口与该基板的表面对向地设置，

以使该液体回收口包围该液体供应口的方式将该液体回收口和该液体供应口设置在该嘴构件上。

21.根据权利要求16所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该液体供应口与该基板的表面对向地设置，

以使该液体回收口包围该液体供应口的方式将该液体回收口和该液体供应口设置在该嘴构件上。

22.根据权利要求21所述的液浸曝光装置，其特征在于其中该嘴构件配置成包围该投影光学系统的前端部。