[发明专利]用于硅片清洗机的上料装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种硅片清洗机，特别涉及一种用于硅片清洗机的上料装置。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，目前的清洗机自动化程度不高，需要人工放置片篮，费工费时，亟待提高硅片插片清洗过程中的自动化水平，达到节省人力、提高效率的目的。

发明内容

鉴于现有技术存在的问题，本发明提供一种用于硅片清洗机的上料装置，通过插片、上料、清洗技术进行改进，以提高硅片插片清洗过程中的自动化水平，达到节省人力、提高效率的目的,具体技术方案是，一种用于硅片清洗机的上料装置，包含机架、三级回流线、取料机构、移转机构、出料机构、触摸屏、电控系统，其特征在于：三级回流线、取料机构取水平分别固定在机架下方，移转机构固定在机架中部且在取料机构上方，出料机构在移转机构后方且固定在后面机架上，触摸屏固定在机架外侧面，电控系统安装在机架内上方，所述的取料机构包括提升气缸、摆杆、翻转篮横板、提升气缸连接块、翻转气缸、宽型气爪、单轴机器人、无杆气缸、导轨，提升气缸、摆杆、翻转篮横板、提升气缸连接块、翻转气缸构成取料翻转部分固定于机架底部,宽型气爪、单轴机器人、无杆气缸、导轨构成取料运送部分固定于取料翻转部分上方，提升气缸固定在提升气缸连接块上，翻转气缸一端连接在摆杆上，摆杆另一端连接在翻转篮横板上，导轨固定在机架上，无杆气缸固定在导轨上方，单轴机器人固定在无杆气缸上，宽型气爪固定在单轴机器人下方；所述的移转机构包括旋转台、耳环座垫块、A拉杆气缸、A摆杆、转移篮、旋转台基板、固定轴、B拉杆气缸、B摆杆，旋转台固定在固定轴上，旋转台的轴插于旋转台基板通孔内可转动，耳环座垫块固定在旋转台上，A拉杆气缸一端与耳环座垫块固定、另一端与A摆杆固定，A摆杆与转移篮固定，转移篮支撑在旋转台基板上表面，旋转台基板下表面固定B拉杆气缸，B拉杆气缸与B摆杆一端连接，B摆杆另一端与旋转台的轴外表面固定；所述的出料机构包括、出料宽型气爪、出料导轨、出料平移电缸、出料A单轴机器人、步进马达单轴机器人、出料B单轴机器人，出料宽型气爪固定于步进马达单轴机器人上，步进马达单轴机器人固定于出料平移电缸上，出料平移电缸可在出料导轨上平移，出料A单轴机器人、出料B单轴机器人平行固定在机架内后面，出料导轨置于料A单轴机器人、出料B单轴机器人上，可自由前后移动；所述的电控系统连接为触摸屏与可编程控制器双向连接，启动/停止/复位开关、传感器与可编程控制器单向连接，可编程控制器与传送带电机、电磁阀、三色报警灯单向连接，电磁阀与气缸单向连接，五个驱动器输出端并接后与可编程控制器单向连接，可编程控制器与输出端并接后连接，每个驱动器与一个电机相连，触摸屏与驱动器输出端双向连接。

本发明有益效果是，提高上料速度，增加产能，降低了破片率，降低了污染，避免了人为添加的新污染。

附图说明

图1是本发明的结构主视图。

图2是本发明的结构侧视图。

图3是本发明的取料机构结构取料翻转部分主视图。

图4是本发明的取料机构结构取料运送部分主视图。

图5是本发明的取料机构结构取料翻转部分A-A视图。

图6是本发明的取料机构取料翻转部分B-B结构俯视图。

图7是本发明的移转机构结构主视图。

图8是本发明的移转机构结构侧视图。

图9是本发明的移转机构结构俯视图。

图10是本发明的出料机构结构主视图。

图11是本发明的出料机构结构侧视图。

图12是本发明的出料机构结构俯视图。

图13是本发明的电路连接框图。

具体实施方式

如图1、2所示，一种用于硅片清洗机的上料装置，包含机架1、三级回流线2、取料机构3、移转机构4、出料机构5、触摸屏6、电控系统7，其特征在于：三级回流线2、取料机构3取水平分别固定在机架1下方，移转机构4固定在机架1中部且在取料机构3上方，出料机构5在移转机构4后方且固定在后面机架1上，触摸屏6固定在机架1外侧面，电控系统7安装在机架1内上方。其动作步骤为：a.翻转气缸运动带动翻转篮基板翻转90度，b.提升气缸向上运动将翻转篮基板提高，c.单轴机器人向下运动到指定位置，d.宽型气爪抓取片篮，e.单轴机器人向上运动，f.无杆气缸将片篮移动到指定位置，g.松开宽型气爪将片篮放置在待料位。