[发明专利]一种团聚剂及去除方法

权利要求书

1.一种团聚剂，其特征在于，所述团聚剂包括：成核剂、吸附剂以及交联剂；

其中，所述成核剂主要由镁的氧化物构成，用于吸附物料在超临界水氧化处理中产生的磷酸盐，以形成化合物颗粒；

所述吸附剂主要由硅的氧化物构成，用于吸附所述化合物颗粒；

所述交联剂主要由氧化铝构成，用于与吸附有所述化合物颗粒的所述吸附剂形成复合团聚体。

2.根据权利要求1所述的团聚剂，其特征在于，

所述镁的氧化物的质量占所述团聚剂总质量的比例取值范围为14.5％～17.0％；

所述氧化铝的质量占所述团聚剂总质量的比例取值范围为3.7％～4.0％；

所述硅的氧化物的质量占所述团聚剂总质量的比例取值范围为78.0％～79.0％。

3.根据权利要求2所述的团聚剂，其特征在于，

所述镁的氧化物的质量占所述团聚剂总质量的比例取值范围为14.8％～16.6％；

所述硅的氧化物的质量占所述团聚剂总质量的比例取值范围为78.5％～78.63％。

4.根据权利要求1所述的团聚剂，其特征在于，所述镁的氧化物、所述氧化铝以及所述硅的氧化物的粒径取值范围均为60～100目。

5.根据权利要求1所述的团聚剂，其特征在于，所述镁的氧化物包括：MgO、MgO2中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的团聚剂，其特征在于，所述硅的氧化物包括：SiO2、SiO中的至少一种。

7.一种用于去除物料在超临界水氧化处理中产生的磷酸盐的去除方法，其特征在于，所述去除方法包括：

在超临界反应器中加入物料以及团聚剂进行超临界水氧化处理；所述团聚剂为权利要求1至6任一项所述的团聚剂；

去除沉降在所述超临界反应器下部的复合团聚体。

8.根据权利要求7所述的去除方法，其特征在于，所述团聚剂的加入量为所述物料包含的磷元素质量的4.4～4.7倍。

9.根据权利要求7所述的去除方法，其特征在于，形成的所述复合团聚体的粒径取值范围为1～8mm。

10.根据权利要求7所述的去除方法，其特征在于，所述去除沉降在所述超临界反应器下部的复合团聚体，具体包括：

降低所述超临界反应器下部的温度，使所述复合团聚体中的磷酸盐溶解于水溶液中，包括有所述复合团聚体中的不溶性化合物的不溶性物质聚集在所述超临界反应器下部的底部；

排放出所述超临界反应器下部的底部溶解有所述磷酸盐的水溶液以及聚集的所述不溶性物质。