[发明专利]基于Flip-chip连接的集成电路封装结构及封装工艺在审
申请号: | 201510895922.8 | 申请日: | 2015-12-08 |
公开(公告)号: | CN105551971A | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 刘兴波;梁大钟;宋波 | 申请(专利权)人: | 广东气派科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L21/60;H01L23/495 |
代理公司: | 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 | 代理人: | 廉红果;吴雅丽 |
地址: | 523330 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 flip chip 连接 集成电路 封装 结构 工艺 | ||
技术领域
本发明属于集成电路封装技术领域,具体涉及一种基于Flip-chip连接的集成电 路封装结构及封装工艺。
背景技术
集成电路扁平无引脚封装(QFN/DFN),在近几年随着通讯设备(如基站、交换机)、 智能手机、便携式设备(如平板电脑)、可穿戴设备(如智能手表、智能眼镜、智能手环等)的 普及而迅速发展,特别适用于有高频、高带宽、低噪声、高导热、小体积、高速度等电性需求 的大规模集成电路的封装。集成电路扁平无引脚封装(QFN/DFN)有效地利用了引线脚的封 装空间,从而大幅度地提高了封装效率。该封装由于引线短小、塑封体尺寸小、封装体薄,可 以使CPU体积缩小30%-50%,同时具有良好的散热性能。传统的集成电路扁平无引脚封装封 装(QFN/DFN)主要存在以下不足:一是设计及制作周期长,成本比较高;二是凸点的排布以 及I/O的密集程度受到框架设计及框架制造工艺的限制;三是框架在腐蚀变薄后,在模具 内有滑动的风险,封装可靠性得不到保障;四是传统的QFN/DFN产品厚度仍然比较大,无法 满足当前的便携式设备对小体积、高密度封装的需求。传统的基于Flip-chip的QFN/DFN工 艺流程为:框架镀银→晶圆减薄→划片→做金属凸点→倒装上芯→塑封→腐蚀框架→电镀 →切割→包装。
发明内容
本发明提供了一种基于Flip-chip连接的免贴膜、免电镀的封装件及其制作工艺, 同时降低了塑封料压力,增加了塑封料与金属框架的接合面积,封装可靠性大幅提升的基 于Flip-chip连接的集成电路封装结构及封装工艺。
一种基于Flip-chip连接的集成电路封装结构,其特征是:包括有芯片、设于芯片 上的金属凸点、镀镍钯金层和倒角镀银层、塑封体;所述倒角镀银层为相互独立的镀银层 段,所述芯片上设有金属凸点,金属凸点、芯片、镀镍钯金层和倒角镀银层塑封于塑封体中, 金属凸点、芯片、倒角镀银层和镀镍钯金层构成了电路的电源和信号通道。
一种基于Flip-chip连接的集成电路封装工艺,其特征是:包括有如下步骤:
a.在引线框的框架上镀镍钯金;
b.生长倒角镀银层;
c.对芯片进行晶圆减薄;
d.划片;
e.在引线框架上制作金属凸点;
f.采用倒装方式安装芯片于引线框上;
g.对上述结构进行塑封;
h腐蚀引线框的框架。
在上述工序完毕后,再对对塑封完毕的产品进行切割并进行包装。
更进一步的,b步骤中倒角镀银层是通过化学腐蚀法,使镀镍钯金层之上的镀银层 形成倒角凹槽。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造