[发明专利]研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法

权利要求书

1.一种研磨剂，其特征在于，含有水、4价金属氢氧化物粒子及添加剂，所述添加剂含有阳离子性的聚合物，所述阳离子性的聚合物为二烯丙基胺聚合物或其衍生物。

2.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述4价金属氢氧化物粒子的平均粒径为1nm以上400nm以下。

3.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，研磨剂的pH为3.0以上7.0以下。

4.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述4价金属氢氧化物粒子的含有量相对于100重量份的研磨剂为0.001重量份以上5重量份以下。

5.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述4价金属氢氧化物粒子在研磨剂中的ζ电位为+10mV以上。

6.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，作为所述添加剂使用的阳离子性的聚合物合计含有量相对于100重量份的研磨剂为0.0001重量份以上。

7.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，作为所述添加剂使用的阳离子性的聚合物合计含有量相对于100重量份的研磨剂为0.0005重量份以上5重量份以下。

8.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述二烯丙基胺聚合物或其衍生物的重均分子量为100以上。

9.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述二烯丙基胺聚合物或其衍生物的重均分子量为300以上且小于100万。

10.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述二烯丙基胺聚合物或其衍生物包含选自二烯丙基胺聚合物、二烯丙基胺盐酸盐聚合物、甲基二烯丙基胺盐酸盐聚合物、甲基二烯丙基胺酰胺硫酸盐聚合物、甲基二烯丙基胺醋酸盐聚合物、二烯丙基二甲基氯化铵聚合物、二烯丙基胺盐酸盐·二氧化硫共聚物、二烯丙基胺醋酸盐·二氧化硫共聚物、二烯丙基甲基乙基铵乙基硫酸盐·二氧化硫共聚物、甲基二烯丙基胺盐酸盐·二氧化硫共聚物、二烯丙基二甲基氯化铵·二氧化硫共聚物、二烯丙基二甲基氯化铵·丙烯酰胺共聚物、部分3-氯-2-羟丙基化二烯丙基胺盐酸盐·二烯丙基二甲基氯化铵共聚物、二烯丙基胺盐酸盐·马来酸共聚物、二烯丙基胺酰胺硫酸盐·马来酸共聚物及马来酸·二烯丙基二甲基氯化铵·二氧化硫共聚物组成的组中的至少一种。

11.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述二烯丙基胺聚合物包含选自二烯丙基胺聚合物、以及下述单体的共聚物组成的组中的至少一种，所述单体包含二烯丙基胺以及选自二氧化硫和具有碳碳双键的单体化合物组成的组中的至少一种。

12.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，所述二烯丙基胺聚合物包含选自二烯丙基胺聚合物、以及下述单体的共聚物组成的组中的至少一种，所述单体包含二烯丙基胺以及选自二氧化硫、马来酸、富马酸、丙烯酰胺和二甲基丙烯酰胺组成的组中的至少一种。

13.如权利要求1所述的研磨剂，其特征在于，进一步含有第二添加剂。

14.如权利要求13所述的研磨剂，其特征在于，所述第二添加剂的配合量相对于100重量份的研磨剂为0.01重量份以上10重量份以下。

15.如权利要求13所述的研磨剂，其特征在于，所述第二添加剂包含选自羧酸、氨基酸、两性表面活性剂、阴离子性表面活性剂、非离子性表面活性剂及阳离子性表面活性剂组成的组中的至少一种。

16.如权利要求13所述的研磨剂，其特征在于，所述第二添加剂包含选自羧酸、氨基酸及两性表面活性剂组成的组中的至少一种。

17.如权利要求16所述的研磨剂，其特征在于，所述羧酸包含选自甲酸、醋酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸及乳酸组成的组中的至少一种。

18.如权利要求16所述的研磨剂，其特征在于，所述氨基酸包含选自精氨酸、赖氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、天冬酰胺、谷氨酰胺、组氨酸、脯氨酸、酪氨酸、色氨酸、丝氨酸、苏氨酸、甘氨酸、丙氨酸、β-丙氨酸、蛋氨酸、半胱氨酸、苯丙氨酸、亮氨酸、缬氨酸及异亮氨酸组成的组中的至少一种。