[发明专利]一种等离子体改性尼龙膜工艺方法

权利要求书

1.一种等离子体改性尼龙膜工艺，其特征步骤在于：1）改性尼龙膜采用尼龙粒料与纳米材料在搅拌机内混合均匀，将混合均匀物料加入双螺杆挤出机中挤出；2）水冷、切料、烘干；3）将改性尼龙粒料在吹塑机内进行吹塑成膜；4）在吹塑成膜收卷仓内进行亚真空或真空环境下等离子体处理，得到表面活化的尼龙膜材料。

2.根据权利要求1中所述的一种等离子体改性尼龙膜工艺，其特征在于，所述与尼龙粒料混合的纳米材料为纳米碳化硅、纳米二氧化硅、纳米蒙脱土中的一种或几种。

3.根据权利要求1中所述的一种等离子体改性尼龙膜工艺，其特征在于，所述纳米材料的粒径范围在10-100nm。

4.根据权利要求1中所述的一种等离子体改性尼龙膜工艺，其特征在于，所述纳米粒子占尼龙混合粒料的总质量配比为1-10%。

5.根据权利要求1中所述的一种等离子体改性尼龙膜工艺，其特征在于，所述尼龙膜的厚度在10-100μm。