[发明专利]一种真空系统有效

专利信息
申请号: 201510919699.6 申请日: 2015-12-10
公开(公告)号: CN105552001B 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 蔡文 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;C23C14/56;C23C16/54
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 真空泵 第一腔室 第二腔室 真空泵连接 真空系统 抽真空 正常工作状态 控制设备 停机 停机状态 产能 运作 修复 生产
【说明书】:

发明公开一种真空系统,包括:第一腔室、第二腔室、第一真空泵、第二真空泵及控制设备;第一真空泵连接于第一腔室,用于正常工作状态下对第一腔室抽真空,第二真空泵连接于第二腔室,用于正常工作状态下对第二腔室抽真空,第一腔室进一步与第二真空泵连接;控制设备用于在第一真空泵异常停机状态下,使用第二真空泵同时对第一腔室和第二腔室抽真空。通过上述方式,本发明真空系统的第一腔室不会因第一真空泵的异常停机而停机,在第一真空泵修复过程中,通过第二真空泵的运作继续进行生产,从而提高系统可运作时间,提升产能。

技术领域

本发明涉及真空技术领域,特别涉及一种真空系统。

背景技术

多腔室的真空系统应用于半导体加工领域,利用干法刻蚀机(Dry Etcher)、化学气象沉积成膜机(Chemical Vapor Deposition,CVD)、物理气象沉积成膜机(PhysicalVapor Deposition,PVD)等真空系统对半导体加工材料在真空环境下进行加工。在多腔室的真空系统中,通常采用独立的真空泵对某一腔室抽真空,通过不断改变泵内吸气空腔的体积,使被抽腔室内气体的体积不断膨胀,从而获得需要的真空环境,长时间的运转会使真空泵由于温度异常或背压高等原因异常停机,导致相应的腔室也停止工作,无法进行生产,而对真空泵修复的过程耗时一般较长,降低真空系统的可运作时间,影响生产产能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种真空系统,旨在解决因真空泵异常停机时,导致相应的腔室无法继续工作的问题。

为实现上述目的,本发明提供一种真空系统,包括:

第一腔室、第二腔室、第一真空泵、第二真空泵及控制设备;

第一真空泵连接于第一腔室,用于正常工作状态下对第一腔室抽真空,第二真空泵连接于第二腔室,用于正常工作状态下对第二腔室抽真空,第一腔室进一步与第二真空泵连接;

控制设备用于在第一真空泵异常停机状态下,使用第二真空泵同时对第一腔室和第二腔室抽真空。

其中,第一真空泵通过第一管路直接或间接与第一腔室连接,第二真空泵通过第二管路直接或间接与第二腔室连接,控制设备检测第一真空泵是否处于正常工作状态下,在第一真空泵处于正常工作状态时控制第一管路与第二真空泵不连通,在第一真空泵异常停机状态下,使第一管路与第二真空泵连通。

其中,第一管路上设有第一阀门,第二管路上设有第二阀门,第一阀门和第二阀门之间连接有第三管路,并且控制设备连接第一阀门和第二阀门,其中控制设备在第一真空泵处于正常工作状态下时,控制第一阀门使第一真空泵与第一腔室之间维持连通状态,并且控制第一阀门和第二阀门使第三管路与第一管路不连通,在第一真空泵处于异常停机状态时,控制第一阀门使第一真空泵与第一腔室之间维持不连通状态,并且控制第一阀门和第二阀门使第三管路与第一管路和第二管路连通。

其中,第一阀门至少包括第一端口、第二端口、第三端口,第二阀门至少包括第四端口、第五端口、第六端口,第一端口及第二端口通过第一管路分别连接第一腔室及第一真空泵,第四端口及第五端口通过第二管路分别连接第二腔室及第二真空泵,第三端口及第六端口之间连接有第三管路;

其中控制设备在第一真空泵处于正常工作状态下时,控制第一阀门的第一端口与第二端口维持连通状态,并且控制第一端口和第三端口不连通,第二阀门的第五端口和第六端口不连通,在第一真空泵处于异常停机状态时,控制第一阀门的第一端口和第二端口维持不连通状态,并且控制第一端口和第三端口连通,控制第二阀门的第五端口和第六端口连通。

其中,第一阀门及第二阀门为T型三通阀。

其中,第一腔室与第一阀门之间连接有分子泵,分子泵与第一真空泵或第二真空泵同时对第一腔室抽真空。

其中,第一腔室为工艺腔室,第二腔室为传送腔室,第一腔室与第二腔室串联连接。

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