[发明专利]一种二氧化锡纳米花阵列的合成方法

权利要求书

1.一种二氧化锡纳米花阵列的合成方法，其特征在于包括如下步骤：

1)将铜片依次用乙醇、稀硝酸和蒸馏水超声处理，在空气中风干待用；

2)将五水四氯化锡与去离子水搅拌混合均匀，控制溶液的浓度为0.02～6.0 mol/L，形成溶液A；将氢氧化钠和去离子水搅拌混合均匀，形成溶液B，氢 氧化钠在溶液B中的浓度为1.25～6.56mol/L；将溶液A和溶液B混合搅拌均匀， 溶液A和溶液B的体积比为9:1‐1:9；然后将铜片放置在反应釜中，封釜，在 140～220℃下水热反应4～48h，自然冷却至室温，反应产物在蒸馏水或无水乙 醇中浸洗，干燥，得均匀的纳米柱组成的二氧化锡纳米花阵列。

2.根据权利要求1所述的二氧化锡纳米花阵列的合成方法，其特征在于： 所述铜片的规格为:长和宽分别为2cm×1cm，厚度为0.02～0.5cm；铜片的纯度 不少于99.5％。

3.根据权利要求1所述的二氧化锡纳米花阵列的合成方法，其特征在于： 所述铜片依次用乙醇、稀硝酸和蒸馏水超声处理的时间都为5～10分钟。

4.根据权利要求1所述的二氧化锡纳米花阵列的合成方法，其特征在于： 所述水热反应的温度为180～220℃。

5.根据权利要求1所述的二氧化锡纳米花阵列的合成方法，其特征在于： 所述水热反应的时间为8～30h。

6.根据权利要求1所述的二氧化锡纳米花阵列的合成方法，其特征在于： 所述反应釜为带有聚四氟乙烯内衬的高压反应釜。

7.根据权利要求1所述的二氧化锡纳米花阵列的合成方法，其特征在于： 所述浸洗是用镊子夹出产物后在蒸馏水或无水乙醇中进行。

8.根据权利要求1所述的二氧化锡纳米花阵列的合成方法，其特征在于： 所述干燥在室温进行。