[发明专利]一种保护膜及其制备方法

权利要求书

1.一种保护膜，其特征在于：所述保护膜包括主膜(1)、由下至上依次设置在主膜(1)上表面的上副膜(4)和外护膜(8)、由上至下依次设置在主膜(1)下表面的下副膜(5)和剥离膜(9)，所述主膜(1)包括上基膜(1-2)、下基膜(1-1)、设置在上基膜(1-2)和下基膜(1-1)之间的功能介质层(1-4)、控制上基膜(1-2)和下基膜(1-1)之间距离的控距珠(1-3)；

功能介质层(1-4)为光固化材料，所述光固化材料包括光固化预聚物、功能化合物添加剂以及光引发剂，所述光固化预聚物选自丙烯酸接枝聚氨酯类预聚物、丙烯酸接枝聚芳酯类预聚物、有机硅类预聚物和环氧类预聚物的其中一种或几种；

所述控距珠(1-3)为玻璃微珠或掺杂玻璃微珠。

2.根据权利要求1所述的一种保护膜，其特征在于：所述主膜(1)中，上基膜(1-2)、下基膜(1-1)的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯，各个控距珠(1-3)的直径相同且直径在5～50μm之间，所述主膜(1)的透光率大于90％，雾度小于2％。

3.根据权利要求1所述的一种保护膜，其特征在于：所述上副膜(4)和主膜(1)之间设置上软化层(2)，所述上副膜(4)和外护膜(8)之间设置上胶层(6)；所述下副膜(5)和主膜(1)之间设置下软化层(3)，所述下副膜(4)和剥离膜(9)之间设置下胶层(7)。

4.一种如权利要求3所述的保护膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括如下工艺步骤，

A.制备主膜(1)，所述主膜(1)的制备过程为，

A1.对上基膜(1-2)和下基膜(1-1)的表面除水、除尘、除静电，并将下基膜(1-1)平铺在涂布台上，

A2.配制光固化材料并将光固化材料均匀涂布在下基膜(1-1)的上表面，

A3.将上基膜(1-2)贴合到光固化材料表面，

A4.将主膜(1)放在紫外固化机中固化处理；

B.在主膜(1)的其中一个表面依次涂布制备上软化层(2)及上副膜(4)；

C.在主膜(1)的另一个表面依次涂布制备下软化层(3)及下副膜(5)；

D.在外护膜(8)的其中一个表面涂布制备上胶层(6)，将上胶层(6)与上副膜(4)贴合；

E.在剥离膜(9)的其中一个表面涂布制备下胶层(7)，将下胶层(7)与下副膜(5)贴合。

5.根据权利要求4所述的一种保护膜的制备方法，其特征在于：涂布速度设置为5～25mm/s。

6.根据权利要求4所述的一种保护膜的制备方法，其特征在于：所述紫外固化机中采用0.5mW/cm²～2.5mW/cm²的能量固化1～15min。