[发明专利]一种利用白腐菌漆酶降解酸性艳绿的方法在审
申请号: | 201510931354.2 | 申请日: | 2015-12-15 |
公开(公告)号: | CN105417725A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 李国深 | 申请(专利权)人: | 李国深 |
主分类号: | C02F3/34 | 分类号: | C02F3/34;C02F103/28 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 林伟斌 |
地址: | 528247 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 白腐菌漆酶 降解 酸性 方法 | ||
技术领域
本发明涉及染料降解技术领域,更具体地,涉及一种利用白腐菌漆酶降解酸性艳绿的方法。
背景技术
造纸行业中除了办公及印刷等所用的白色纸张外,大量带有颜色的纸张的需求量也随着人们生活水平的提高和经济的飞速发展而不断的增加,这样就需要各种用于给纸张染色的染料,造成了大量的染料废水。
染料废水是含染料的有色废水,是难以处理的工业废水之一。随着染料工业和印刷工业的迅猛发展,染料的种类和数量在不断的增加。在染料生产和使用的过程中,约有10~20%的染料随废水排放到环境中去。生产染料的基本原料是苯系、萘系、蒽醌、苯胺及联苯胺类化合物,并且在生产过程中长与金属、盐类等物质相螯合,因此染料废水中含有很多具有生物毒性的有机物,即使废水中残余的染料浓度很低,排入水体中后也会造成水体透光率降低、水体生态系统的破坏等问题。因此染料的降解成为了处理染料废水的首要问题。
漆酶广泛的底物范围使得它可以用于降解多种结构的染料。朱启忠等人研究了白毒鹅膏菌漆酶的粗酶液与12种工业染料的反应,结果发现漆酶粗酶液能与直接大红、直接黑等造纸用染料反应,且脱色率在70%左右;S.RodríguezCouto研究了Trameteshirsuta漆酶对直接黑等染料的降解效果,结果显示直接黑的脱色率达到70%,直接蓝则接近80%,显示了漆酶对染料较好的降解效果。
酸性艳绿GS是工业中常用的一种染料,由于其较难降解,从而成为了研究难题,目前还没有看到关于真菌漆酶降解酸性艳绿GS的研究报道。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术中降解酸性艳绿的缺陷,提供一种利用白腐菌漆酶降解酸性艳绿的方法。
本发明的目的是通过以下技术方案予以实现的:
一种利用白腐菌漆酶降解酸性艳绿的方法,是利用贝壳状革耳菌Panusconchatus发酵产生的粗酶液处理酸性艳绿。
申请人通过研究表明利用贝壳状革耳菌Panusconchatus发酵产生的粗酶液中漆酶能够高效降解酸性艳绿。
优选地,是利用利用贝壳状革耳菌Panusconchatus发酵产生的粗酶液在25~35℃,pH为3~5下反应,所述粗酶液中漆酶的用量为0.5~1U/mL,酸性艳绿的浓度为60~80mg/L。
通过SPSS优化发现利用利用贝壳状革耳菌Panusconchatus发酵产生的粗酶液在28℃,pH为4下反应,所述粗酶液中漆酶的用量为0.8U/mL,酸性艳绿的浓度为80mg/L,在35min酸性艳绿的脱色率即可到达98%。
优选地,上述反应体系中添加1-羟基苯并三唑;具体地,所述1-羟基苯并三唑的添加量为0.005%(质量分数)。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
本发明提供了利用白腐菌漆酶降解酸性艳绿的方法,是利用贝壳状革耳菌Panusconchatus发酵产生的粗酶液处理酸性艳绿,通过SPSS软件设计贝壳状革耳菌漆酶对染料酸性艳绿GS的脱色试验,确定5个因素,分别为反应体系pH(A)、反应温度(B)、漆酶用量(C)、染料浓度(D)和介体用量(E),每个因素选定3个水平进行正交设计。对试验所得数据进行方差分析,结果显示:①各个因素对酸性艳绿GS脱色率的影响顺序为B>A>C>E>D,②从正交设计中得到单因素统计表可知漆酶降解酸性艳绿GS的最佳脱色条件:28℃,pH为4下反应,所述粗酶液中漆酶的用量为0.8U/mL,酸性艳绿的浓度为80mg/L,介体用量为0.005%。按照SPSS分析所得的酸性艳绿GS的最佳脱色条件进行反应,结果表明染料在反应35min后脱色率达到98%,该方法具有广泛和实际的应用价值。
具体实施方式
下面通过实施例对本发明进一步具体描述。本发明的设计思想或同类物质的简单替代属于本发明的保护范围。下述所使用的实验方法若无特殊说明,均为本技术领域现有常规的方法,所使用的配料或材料,如无特殊说明,均为通过商业途径可得到的配料或材料。
本发明所用到的贝壳状革耳菌Panusconchatus是专利号为201210270321.4的中国专利所公开的菌株,该菌株4℃下保存于PDA斜面培养基中。
实施例1
菌种:贝壳状革耳菌Panusconchatus,4℃下保存于PDA斜面培养基中。
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