[发明专利]一种液晶退偏器、制备方法和退偏测试系统

权利要求书

1.一种液晶退偏器，其特征在于，包括：

相对设置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和第二基板之间的液晶层；

其中，所述第一基板与所述第二基板之间设置有间隔粒子，以支撑所述液晶层；

所述第一基板和第二基板近邻所述液晶层的一侧设置有光控取向膜，邻近所述第一基板和/或第二基板的所述光控取向膜具有多组分子指向矢方向不同的微区图形，每组微区图形包括多个随机分布的微区，且同一组微区图形中的微区分子指向矢方向相同；所述多组分子指向矢方向不同的微区图形相互拼接形成所述光控取向膜的工作区，所述光控取向膜中多组分子指向矢方向不同的微区图形控制所述液晶层中的液晶分子指向矢随机分布，以使照射在液晶退偏器的入射的偏振光转换为非偏振光。

2.根据权利要求1所述的液晶退偏器，其特征在于，所述微区的形状为多边形、圆形或椭圆形，同一组微区图形中各微区的面积相同。

3.根据权利要求1所述的液晶退偏器，其特征在于，所述微区图形的数量为18的n倍，多组微区图形的分子指向矢方向依次间隔n为正整数。

4.根据权利要求1所述的液晶退偏器，其特征在于，所述光控取向膜的工作区尺寸为1.4×1mm²，所述微区的尺寸为58×58μm²。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的液晶退偏器，其特征在于，所述液晶层的材料为向列相液晶；所述光控取向膜的材料为偶氮染料。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的液晶退偏器，其特征在于，入射光在所述液晶退偏器中的寻常光和非寻常光的相位差等于π。

7.一种退偏测试系统，其特征在于，包括：

权利要求1-6中任一项所述的液晶退偏器；

位于所述液晶退偏器入光侧的光源，以产生入射光；

位于所述液晶退偏器出光侧的偏振分析仪，以测试出射光的偏振度。

8.一种液晶退偏器的制备方法，其特征在于，包括：

在第一基板和第二基板的一侧形成光控取向膜；

在第一基板上设置间隔粒子，并与所述第二基板封装，其中所述第一基板的光控取向膜一侧与所述第二基板的光控取向膜一侧相对设置；

对邻近所述第一基板和/或第二基板的所述光控取向膜进行多步分区曝光，以形成多组分子指向矢方向不同的微区图形，其中，每组微区图形包括多个随机分布的微区，且同一组微区图形中的微区分子指向矢方向相同，所述多组分子指向矢方向不同的微区图形相互拼接形成所述光控取向膜的工作区；

在所述第一基板和所述第二基板之间灌注液晶层，所述光控取向膜中多组分子指向矢方向不同的微区图形控制所述液晶层中的液晶分子指向矢随机分布，以使照射在液晶退偏器的入射的偏振光转换为非偏振光。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，对邻近所述第一基板和/或第二基板的所述光控取向膜进行多步分区曝光，以形成多组分子指向矢方向不同的微区图形，其中，每组微区图形包括多个随机分布的微区，且同一组微区图形中的微区分子指向矢方向相同，所述多组分子指向矢方向不同的微区图形相互拼接形成所述光控取向膜的工作区，包括：

随机产生多组曝光图形，每组曝光图形包括多个随机分布的曝光微区，多组曝光图形相互拼接形成所述光控取向膜的工作区；

采用数控微镜阵光刻系统，根据曝光次序选择对应的曝光图形，以及对应的诱导光偏振方向，依次进行曝光，以在所述光控取向膜的工作区形成多组分子指向矢方向不同的微区图形，其中，每组微区图形包括多个随机分布的微区，且同一组微区图形中的微区分子指向矢方向相同，所述多组分子指向矢方向不同的微区图形相互拼接形成所述光控取向膜的工作区。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述曝光图形的数量为18的n倍，多组曝光图形对应的诱导光偏振方向依次间隔n为正整数。