[发明专利]一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚

说明书

技术领域

本发明属于高温炉用工装领域，涉及到一种用于氧化镁烧结体靶材的组 合式坩埚。

背景技术

彩色交流等离子体显示器(PDP)对性能要求的提高，氧化镁材料越来越 受到关注。各种试验研究显示，氧化镁是最耐离子撞击的材料之一，且具有 很高的二次电压发射效率与透光率。目前应用广泛的坩埚材质主要有石墨、 石英、陶瓷、刚玉、碳化硅、白金等。氧化镁烧结体靶材需要在1700℃温度 下长时间烧结，且有水汽排出，在生产过程中对现有坩埚逐一进行了考察， 结果都不理想。

在使用过程中对坩埚损坏情况进行观察，总结发现，坩埚损坏都发生在 局部，即坩埚壁的上部、中部、下部或坩埚底部。一般都是由于局部过热， 或附着与坩埚上的杂质在高温下发生共融形成损坏。

因局部的损坏而报废整个坩埚，是一项很大的浪费，增加了生产成本。 从另一个角度讲，生产窑炉和实验窑炉高度不同，因此选用的坩埚尺寸也不 同，没有高度可调节的坩埚可以使用。

发明内容

鉴于上述现状，为满足氧化镁烧结体靶材生产中因局部受损而报废整个 坩埚的问题，本发明提供一种用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚。

本发明的目的通过以下措施实现：提供一种用于氧化镁烧结体靶材的组 合式坩埚，由圆筒形坩埚壁1和坩埚底座2两部分组成，其特征在于，一个 坩埚底座2可以配合一个至多个圆筒形坩埚壁1使用。其中，所述圆筒形坩 埚壁1的上下接口较坩埚壁中心存在偏移，结合时留有余量。所述坩埚底2 做以凸台的形式设置接口。

有益效果：本发明制备的组合式坩埚在有损坏情况发生时，只需报废局 部即可；而且在生产过程中，不在需要复杂的模具，为成型和脱模提供了方 便。

附图说明

图1是本发明的组合式坩埚的分体剖面示意图。

图2是本发明的组合式坩埚三层坩埚壁组合后的剖面示意图。

图中，1为圆筒形坩埚壁；2为底座。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进行详细说明。

参照图1和2，在本实施例中的用于氧化镁烧结体靶材的组合式坩埚，具 体分为多段坩埚壁1和底座2。如图1所示，底座2直径200mm，厚10mm， 凸台高10mm，接口处15mm；圆筒形坩埚壁1高100mm，直径200mm，厚 25mm，接口处厚度10mm。实际使用时，可根据炉膛高度自由组合多个坩埚 壁1。本实例中使用在推板电窑中，炉膛高度340mm，采用三段组合，组合 后如图2所示。使用其在氧化镁烧结体靶材需要在1700℃温度下烧结后，若 局部损坏，只需更换损坏对应的坩埚壁1，其它仍可使用。

以上内容是结合优选技术方案对本发明所做的进一步详细说明，不能认 定发明的具体实施仅限于这些说明。对本发明所属技术领域的普通技术人员 来说，在不脱离本发明的构思的前提下，还可以做出简单的推演及替换，都 应当视为本发明的保护范围。