[发明专利]一种真空玻璃等离子体清洗方法和设备

权利要求书

1.一种真空玻璃等离子体清洗方法，用于去除封装后的真空玻璃腔体内的有机污染物，所述真空玻璃的至少一片玻璃基板上有抽气口，包括以下步骤：

1）、将与激发电源相连的两个激发电极作用在真空玻璃上；

2）、通过真空玻璃的抽气口将真空腔抽至设定压力；

3）、打开激发电源，电离真空腔内的稀薄气体，使产生的等离子体轰击玻璃内表面和封装层内表面，使其上附着的有机污染物脱离出来；

4）、将步骤3）中轰击产生的气体抽走；

5）、重复2-4的步骤；

6）、持续抽真空到设定真空值后，对抽气口进行密封，完成真空玻璃制造。

2.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述真空玻璃采用含有金属材质的封装层封边；所述步骤1）中的第一激发电极设置在真空玻璃的上面和/或下面，并与所述激发电源的正极相连；所述第二激发电极的一端与所述含有金属材质的封装层相连接，另一端与激发电源的负极相连接。

3.根据权利要求1所述方法，其特征在于，在所述真空玻璃清洗前，将所述真空玻璃预热并保持在60℃—230℃。

4.根据权利要求1所述方法，其特征在于，在步骤2）中还包括向所述真空腔中充惰性气体、氮气、氢气或前述任意两种或多种气体的混合气体。

5.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述激发电源为直流、脉冲、中频、射频或微波电源；其电压或功率根据真空腔内的设定真空度调整。

6.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述步骤2）的设定压力不超过1000Pa。

7.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述步骤3）和步骤4）能够同时进行。

8.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述等离子体为辉光等离子体。

9.采用权利要求1-8任一权利要求中所述等离子清洗方法的真空玻璃清洗设备，其特征在于，所述设备包括用于在清洗过程中支撑真空玻璃的真空玻璃承载装置、用于产生所述等离子体的等离子体激发装置和用于为所述真空玻璃抽取真空的真空装置，所述等离子体激发装置包括：激发电源、第一激发电极和第二激发电极，所述激发电源的正极与所述第一激发电极相连，所述激发电源的负极与所述第二激发电极相连。

10.根据权利要求9中所述设备，其特征在于，所述激发电极为板状、带状或刷状。

11.根据权利要求9中所述设备，其特征在于，所述激发电极为固定电极或移动电极。

12.根据权利要求9中所述设备，其特征在于，所述设备还包括容纳真空玻璃承载装置和所述第一、第二激发电极的腔体。