[发明专利]一种防止控制触点烧蚀的供水控制装置在审

专利信息
申请号: 201510936584.8 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN105528010A 公开(公告)日: 2016-04-27
发明(设计)人: 胡万顺 申请(专利权)人: 芜湖市恒峰科技有限公司
主分类号: G05F1/569 分类号: G05F1/569
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 241007 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 防止 控制 触点 供水 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种自动化控制装置,具体涉及一种防止控制触点烧蚀的供水控制装置。

背景技术

农村的供水系统普遍采用无塔增压式供水控制装置,这种供水控制装置的缺点是电接点压力计的控制触点容易烧蚀,造成水压失控。

发明内容

发明目的:本发明的目的是为了解决现有技术中的不足,提供一种电路结构设计合理,控制方便且自动化程度高,且采用12V直流电压供电,流经压力计控制触点的电流很小,可避免控制触点烧蚀,电路工作稳定可靠,且制作成本低廉的防止控制触点烧蚀的供水控制装置。

技术方案:本发明所述的一种防止控制触点烧蚀的供水控制装置,包括电源电路和检测控制电路,所述电源电路由刀开关Q1、熔断器FU、电源开关S1、降压电容器C1、泄放电阻器R1、稳压二极管VS、整流二极管VD和滤波电容器C2组成,所述刀开关Q1的一端与市电连接,所述刀开关Q1的另一端与所述熔断器FU连接,所述熔断器FU还通过电源开关S1并联连接有降压电容器C1和泄放电阻器R1,所述降压电容器C1和泄放电阻器R1另一端还共同并联连接有稳压二极管VS、整流二极管VD,所述稳压二极管VS与整流二极管VD之间还设有滤波电容器C2;所述检测控制电路由电接点压力计Q2、电阻器R2~R9、电容器C3、控制开关S2、时基集成电路IC、发光二极管VL1、VL2、晶闸管VT、交流接触器KM和热继电器KR组成,所述时基集成电路IC的4脚和8脚与整流二极管VD连接,所述时基集成电路IC的2脚和6脚通过电阻器R5连接有控制开关S2,所述控制开关S2通过控制端1分别连接有电阻器R4、电阻器R2以及电接点压力计Q2的动触点,所述控制开关S2通过控制端2接地,所述电阻器R4还连接有电阻器R3,所述电接点压力计Q2的上限触点与整流二极管VD连接,所述电接点压力计Q2的下限触点接地,所述时基集成电路IC的3脚分别连接有电阻器R6、发光二极管VL2以及电阻器R8,所述电阻器R6还连接有发光二极管VL1,所述发光二极管VL2还连接有电阻器R7,所述电阻器R8还连接有晶闸管VT,所述晶闸管VT还并联连接有交流接触器KM以及电阻器R9,所述交流接触器KM的触点开关与熔断器FU连接,所述交流接触器KM的触点开关还通过热继电器KR连接有电机M。

进一步的,所述电阻器R1~R9选用1/4W金属膜电阻器或碳膜电阻器。

进一步的,所述电容器C1和C3选用耐压值为400V的CBB聚丙烯电容器;C2选用耐压值为16V的铝电解电容器。

进一步的,所述整流二极管VD选用1N4007型硅整流二极管或2CP10型硅普通二极管。

进一步的,所述稳压二极管VS选用1W、12V的硅稳压二极管,例如1N4742等型号。

进一步的,所述发光二极管VL1和VL2均选用Φ5mm的普通发光二极管。

进一步的,所述晶闸管VT选用TLC336A,3A、600V的双向晶闸管。

进一步的,所述时基集成电路IC选用NE555或561555型时基集成电路。

进一步的,所述S1选用5A、250V的电源开关;S2选用小型单极双位开关。

进一步的,所述电接点压力计Q2选用JX-150或JXC150型电接点压力计,使用时安装在水罐的出水口处,其上限压力应低于水罐所能承受的最大压力。

有益效果:本发明所述的一种防止控制触点烧蚀的供水控制装置,其电路结构设计合理,控制方便且自动化程度高,且采用12V直流电压供电,流经压力计控制触点的电流很小,可避免控制触点烧蚀,电路工作稳定可靠,且制作成本低廉。

附图说明

图1为本发明的控制电路原理结构图。

具体实施方式

如图1所示的一种防止控制触点烧蚀的供水控制装置,包括电源电路和检测控制电路。

所述电源电路由刀开关Q1、熔断器FU、电源开关S1、降压电容器C1、泄放电阻器R1、稳压二极管VS、整流二极管VD和滤波电容器C2组成,所述刀开关Q1的一端与市电连接,所述刀开关Q1的另一端与所述熔断器FU连接,所述熔断器FU还通过电源开关S1并联连接有降压电容器C1和泄放电阻器R1,所述降压电容器C1和泄放电阻器R1另一端还共同并联连接有稳压二极管VS、整流二极管VD,所述稳压二极管VS与整流二极管VD之间还设有滤波电容器C2。

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