[发明专利]等离子体点燃和维持的方法及装置

权利要求书

1.一种装置，其包括：

第一梳状结构，其被配置为部分地包围用于产生等离子体的容器的圆周，所述第一梳 状结构具有第一端部和第二端部，使得在所述第一端部与所述第二端部之间限定出第一间 隔距离，所述第一梳状结构限定出垂直于所述容器的圆周取向的第一多个指状件，并且其 中，所述第一梳状结构被配置为连接至线圈的第一端部，所述线圈被配置为接收RF驱动器 信号以在所述容器中产生等离子体；以及

第二梳状结构，其被配置为部分地包围所述容器的圆周，所述第二梳状结构具有第一 端部和第二端部，使得在所述第二梳状结构的所述第一端部与所述第二端部之间限定出第 二间隔距离，所述第二梳状结构限定出垂直于所述容器的圆周取向的第二多个指状件，并 且其中，所述第二梳状结构被配置为连接至所述线圈的第二端部；

其中，所述第一梳状结构的所述第一多个指状件进一步被定向为面向所述第二梳状结 构的所述第二多个指状件；

其中，在所述第一多个指状件和所述第二多个指状件的端部之间限定出第三间隔距 离。

2.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一梳状结构和所述第二梳状结构布置在所述 容器的外部的第一半径处，所述线圈布置在所述第一半径的外部的第二半径处。

3.如权利要求1所述的装置，其中，所述线圈的所述第二端部接地。

4.如权利要求1所述的装置，其中，所述线圈被配置为产生环绕所述第一梳状结构和所 述第二梳状结构并且环绕所述容器的磁场线。

5.如权利要求1所述的装置，其中，所述容器具有纵轴线，并且所述第一梳状结构和所 述第二梳状结构在所述容器的外部并且沿着所述纵轴线对准。

6.如权利要求1所述的装置，其中，所述RF驱动器信号具有在大约10MHz至大约100MHz 之间的频率。

7.如权利要求1所述的装置，其中，所述线圈被配置为环绕所述容器的缠绕线圈，并且 所述线圈具有所述第一端部与所述第二端部之间的线圈长度。

8.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一多个指状件的每个指状件均与相邻的指状 件间隔开，并且所述第二多个指状件的每个指状件均与相邻的指状件间隔开。

9.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一梳状结构和所述第二梳状结构均由导电材 料限定。

10.一种与用于产生等离子体的容器一起使用的装置，其包括：

第一梳状结构，其被配置为部分地缠绕到所述容器的圆周上，所述第一梳状结构具有 第一端部和第二端部，并且在所述第一端部与所述第二端部之间限定出第一间隔距离，所 述第一梳状结构限定出垂直于所述容器的圆周取向的第一多个指状件，并且其中，所述第 一梳状结构被配置为连接至射频(RF)线圈的第一端部；以及

第二梳状结构，其被配置为部分地缠绕到所述容器的圆周上，所述第二梳状结构具有 第一端部和第二端部，并且在所述第二梳状结构的所述第一端部与所述第二端部之间限定 出第二间隔距离，所述第二梳状结构限定出垂直于所述容器的圆周取向的第二多个指状 件，并且其中，所述第二梳状结构被配置为连接至所述RF线圈的第二端部；

其中，所述第一多个指状件的端部和所述第二多个指状件的端部被配置为面向彼此并 且维持第三间隔距离。

11.如权利要求10所述的装置，其中，所述第一梳状结构和所述第二梳状结构布置在所 述容器的外部的第一半径处，所述RF线圈布置在所述第一半径的外部的第二半径处。

12.如权利要求10所述的装置，其中，所述RF线圈的所述第二端部接地。

13.如权利要求10所述的装置，其中，所述RF线圈被配置为产生环绕所述第一梳状结构 和所述第二梳状结构并且环绕所述容器的磁场线。

14.如权利要求10所述的装置，其中，所述容器具有纵轴线，并且所述第一梳状结构和 所述第二梳状结构在所述容器的外部并且沿着所述纵轴线对准。