[发明专利]无模板晶圆植球工艺在审

专利信息
申请号: 201510941388.X 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN105489514A 公开(公告)日: 2016-04-13
发明(设计)人: 冯光建;孙鹏 申请(专利权)人: 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良;屠志力
地址: 214135 江苏省无锡市新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 模板 晶圆植球 工艺
【权利要求书】:

1.一种无模板晶圆植球工艺,其特征在于,包括下述步骤:

步骤S1,对滚轴充电,使滚轴表面带静电;通过激光扫描,使得滚轴表面具有与晶圆植球区域相对应的静电图形;滚轴旋转中先接触焊料粉,使得滚轴表面对应晶圆植球区域吸附焊料粉;然后通过滚轴与涂有粘性膜的基板接触,使得焊料粉转移至基板上的临时键合胶膜和粘性膜形成的介质层中;基板表面先涂覆有临时键合胶膜,粘性膜涂覆在临时键合胶膜之上;

步骤S2,利用键合工艺将基板介质层和晶圆键合在一起;

步骤S3,对基板和介质层解键合使带焊料粉的介质层转移到晶圆上;

步骤S4,进行回流焊得到焊球;清洗晶圆表面残留物质。

2.如权利要求1所述的无模板晶圆植球工艺,其特征在于:

步骤S1具体包括:

首先形成与晶圆植球区域和不植球区域对应的数字信号;

通过激光将数字信号扫描到滚轴上,使得滚轴表面对应晶圆植球区域不带电,将滚轴与带有与滚轴上同种静电的焊料粉接触,使得滚轴表面不带电区域吸附焊料粉,然后通过接触法使滚轴表面的焊料粉转移到基板上;

或:

通过激光将数字信号扫描到滚轴上,使得滚轴表面对应晶圆植球区域带电,将滚轴与不带电的焊料粉接触,使得滚轴表面带电区域吸附焊料粉,然后通过接触法使滚轴表面的焊料粉转移到基板上。

3.如权利要求1所述的无模板晶圆植球工艺,其特征在于:

步骤S1中,焊料粉先粘附至临时键合胶膜上,再逐层喷涂粘性膜,焊料粉继续粘附至各层粘性膜上;或:

临时键合胶膜上先喷涂一层粘性膜,焊料粉粘附在第一层粘性膜上后,再逐层喷涂粘性膜,焊料粉继续粘附至后续各层粘性膜上。

4.如权利要求1所述的无模板晶圆植球工艺,其特征在于:

步骤S1中,基板表面的临时键合胶膜中加入助焊剂成分。

5.如权利要求1所述的无模板晶圆植球工艺,其特征在于:

步骤S1中,基板表面先涂覆临时键合胶膜,然后再喷涂一层助焊剂。

6.如权利要求1所述的无模板晶圆植球工艺,其特征在于:

步骤S1中,基板上的粘性膜中加入助焊剂成分。

7.如权利要求1所述的无模板晶圆植球工艺,其特征在于:

步骤S1中,基板的临时键合胶膜上,涂覆一层粘性膜后再喷涂一层助焊剂。

8.如权利要求1所述的无模板晶圆植球工艺,其特征在于:

步骤S2中,键合前晶圆上与基板介质层相对的表面涂布助焊剂。

9.如权利要求1所述的无模板晶圆植球工艺,其特征在于:

步骤S4中,回流焊之前在介质层表面喷涂助焊剂。

10.如权利要求1所述的无模板晶圆植球工艺,其特征在于:

步骤S4中,先清洗晶圆表面焊料粉位置外围的介质层材料,再做回流焊。

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