[发明专利]显示装置、背光模组、量子点光学膜片及其制备方法

权利要求书

1.一种量子点光学膜片，其特征在于，包括：

量子点层、包覆在所述量子点层入光侧的表面上的第一复合水氧阻隔层、包覆在所述量子点层出光侧的表面上的第二复合水氧阻隔层；

所述第一复合水氧阻隔层、所述第二复合水氧阻隔层为第一薄膜结构、第二薄膜结构、第三薄膜结构中的一种或任意两种的组合；

其中，所述第一薄膜结构是由对苯二甲酸乙二醇酯PET和石墨烯构成的复合水氧阻隔层；所述第二薄膜结构是石墨烯层；所述第三薄膜结构是由所述PET和氧化铝构成的水氧阻隔层。

2.如权利要求1所述的量子点光学膜片，其特征在于，所述第一薄膜结构包括：

石墨烯层和涂覆在所述石墨烯层表面上的PET膜层；其中，所述第一薄膜结构包覆在所述量子点层的一侧表面时，所述PET膜层设置在所述石墨烯层与所述量子点层之间。

3.如权利要求1所述的量子点光学膜片，其特征在于，所述第一薄膜结构是将石墨烯分散液掺杂在PET分散液中，由所述石墨烯与所述PET通过化学键的结合得到的复合水氧阻隔层。

4.一种量子点光学膜片，其特征在于，所述量子点光学膜片是将石墨烯的分散液掺杂在量子点的分散液中，由所述石墨烯与所述量子点通过化学键的结合得到的复合量子点光学膜片。

5.一种背光模组，其特征在于，至少包括如权利要求1-4中任一项所述的量子点光学膜片。

6.一种显示装置，其特征在于，至少包括如权利要求5所述的背光模组。

7.一种量子点光学膜片的制备方法，其特征在于，包括：

在惰性气氛和催化剂的作用下，采用常压化学气相沉积法在衬底上生长少层石墨烯层；

将设定浓度的对苯二甲酸乙二醇酯PET分散液旋涂在所述少层石墨烯层的表面上，在设定温度下挥发所述PET分散液的溶剂，得到附着在所述衬底上的第一薄膜结构，所述第一薄膜结构包括所述少层石墨烯以及涂覆在所述少层石墨烯上的PET膜层；

将量子点通过分散工艺分散至胶液中，一定条件下固化形成量子点层；

采用光学胶将所述第一薄膜结构和所述量子点层进行组装，得到量子点光学膜片，所述量子点光学膜片包括量子点层，以及分别包覆在所述量子点层入光侧的表面上、出光侧的表面上的所述第一薄膜结构，且所述第一薄膜结构的PET膜层设置在所述少层石墨烯层与所述量子点层之间。

8.一种量子点光学膜片的制备方法，其特征在于，包括：

在惰性气氛和催化剂的作用下，采用常压化学气相沉积法在衬底上生长少层石墨烯层；

采用化学腐蚀法，将所述少层石墨烯层与所述衬底分离；

将所述少层石墨烯层分散在有机挥发溶剂中，得到设定浓度的少层石墨烯分散液；

将设定浓度的对苯二甲酸乙二醇酯PET分散液与所述少层石墨烯分散液混合均匀，采用涂覆法在石英玻璃衬底上制备第一薄膜结构，所述第一薄膜结构是由所述少层石墨烯与所述PET通过化学键的结合而得到的；

制备量子点层，并采用光学胶将所述第一薄膜结构和所述量子点层进行组装，得到量子点光学膜片，且所述量子点光学膜片包括所述量子点层、以及分别包覆在所述量子点层入光侧的表面上、出光侧的表面上的所述第一薄膜结构。

9.一种量子点光学膜片的制备方法，其特征在于，包括：

在惰性气氛和催化剂的作用下，采用常压化学气相沉积法在衬底上生长少层石墨烯层；

将设定浓度的量子点分散液均匀涂覆在所述少层石墨烯层的表面上，在设定温度下挥发所述量子点分散液的溶剂，得到量子点层/少层石墨烯层结构；

采用光学胶将两个所述量子点层/少层石墨烯层结构进行组装得到由量子点层以及分别包覆在所述量子点层入光侧的表面上、出光侧的表面上的少层石墨烯层构成的量子点光学膜片。

10.一种量子点光学膜片的制备方法，其特征在于，包括：

在惰性气氛和催化剂的作用下，采用常压化学气相沉积法在衬底上生长少层石墨烯层；采用化学腐蚀法，将所述少层石墨烯层与所述衬底分离；

将所述少层石墨烯层分散在有机挥发溶剂中，得到设定浓度的少层石墨烯分散液；

将量子点通过分散工艺分散至胶液中，得到设定浓度的量子点分散液；

将所述设定浓度的量子点分散液与所述少层石墨烯分散液混合均匀，并在一定温度和压力条件下进行固化，得到由所述石墨烯与所述量子点通过化学键的结合而成的复合量子点光学膜片。