[发明专利]一种包覆纳米颗粒的原子层沉积装置及其方法

权利要求书

1.一种包覆纳米颗粒的原子层沉积装置，其特征在于，包括电机(2)、反应腔、夹持器(5)和输气管路，其中：

所述电机(2)与所述夹持器(5)相连，用于带动所述夹持器(5)旋转；

所述夹持器(5)位于所述反应腔内部，用于承载纳米颗粒；

所述输气管路用于向所述反应腔中输入反应气体或载气；

所述反应腔周围设置有加热装置，使得所述反应气体与所述纳米颗粒反应从而在所述纳米颗粒上沉积包覆原子层；该反应腔还与真空泵(7)相连，所述真空泵(7)用于对所述反应腔抽真空。

2.如权利要求1所述包覆纳米颗粒的原子层沉积装置，其特征在于，所述夹持器(5)为中心对称结构，其中心对称轴线平行于竖直方向，包括呈圆锥形的上部和呈圆筒形下部，所述夹持器(5)的上部圆锥形表面与所述夹持器(5)中心对称轴线之间的夹角为5°～10°。

3.如权利要求1所述包覆纳米颗粒的原子层沉积装置，其特征在于，所述夹持器(5)的内表面与所述纳米颗粒之间的摩擦系数为1.6。

4.如权利要求1所述包覆纳米颗粒的原子层沉积装置，其特征在于，所述夹持器(5)的底部还设置有气流分布板(13)。

5.如权利要求1所述包覆纳米颗粒的原子层沉积装置，其特征在于，所述夹持器(5)的顶部设置有滤芯(12)，用于防止所述纳米颗粒从所述夹持器(5)顶部渗漏。

6.如权利要求1-5任意一项所述包覆纳米颗粒的原子层沉积装置，其特征在于，所述夹持器(5)与所述电机(2)通过磁流体密封装置(4)相连。

7.如权利要求1-6任意一项所述包覆纳米颗粒的原子层沉积装置，其特征在于，所述反应气体或载气从所述反应腔的下部通入。

8.利用如权利要求1-7任意一项所述包覆纳米颗粒的原子层沉积装置的包覆纳米颗粒的原子层沉积方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将纳米颗粒放入夹持器内部，然后打开真空泵，对反应腔抽真空；接着，对反应腔进行加热，然后利用输气管路向所述反应腔中通入载气；

(2)运行电机使所述夹持器旋转，接着，利用输气管路向所述反应腔中通入反应气体进行原子层沉积；

(3)使所述夹持器停止旋转，并对反应腔冷却降温，得到包覆纳米颗粒的原子层。

9.如权利要求8所述原子层沉积方法，其特征在于，所述步骤(2)中的反应气体为多种，是在一种反应气体进行原子层沉积反应后，接着向所述反应腔中通入载气，然后再向所述反应腔中通入另一种反应气体进行原子层沉积反应。

10.如权利要求8所述原子层沉积方法，其特征在于，所述步骤(2)中反应气体的流速为0.5cm/s～50cm/s；夹持器旋转的转速不超过100r/min。