[发明专利]静电保护电路在审

专利信息
申请号: 201510947252.X 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN105405843A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 田文博;尹航;王钊 申请(专利权)人: 无锡中感微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 无锡互维知识产权代理有限公司 32236 代理人: 庞聪雅
地址: 214028 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 静电 保护 电路
【权利要求书】:

1.一种静电保护电路,其特征在于,其包括:

NMOS晶体管,其源极和栅极连接至第一连接端,其漏极连接至第二连接端;

PMOS晶体管,其源极和栅极连接至第二连接端,其衬体端与其源极相连,其漏极与所述NMOS晶体管的衬体端相连。

2.根据权利要求1所述的静电保护电路,其特征在于:

所述NMOS晶体管包括:

衬底;

自衬底的上表面向下延伸而成的衬底接触区,其作为NMOS晶体管的衬体端;

自衬底的上表面向下延伸而成的第一有源区,其作为NMOS晶体管的漏极;

自衬底的上表面向下延伸而成的第二有源区,所述第一有源区与第二有源区相互间隔,第二有源区作为NMOS晶体管的源极;

形成于所述衬底的上表面之上的第一栅极,其中该第一栅极位于第一有源区和第二有源区之间并与第一有源区和第二有源区相邻;

所述PMOS晶体管包括:

形成于所述衬底中的阱区,第二有源区较第一有源区距离所述阱区更近;

自阱区的上表面向下延伸而成的阱接触区,其作为PMOS晶体管的衬体端;

自阱区的上表面向下延伸而成的第三有源区和第四有源区,其中第三有源区有部分位于阱区内,部分位于衬底中,第三有源区与第二有源区相邻且间隔,第四有源区较第三有源区距离第二有源区更远,第三有源区作为PMOS晶体管的漏极,第四有源区为PMOS晶体管的源极;

形成于所述衬底的上表面之上的第二栅极,其中该第二栅极位于第三有源区和第四有源区之间并与第三有源区和第四有源区相邻。

3.根据权利要求2所述的静电保护电路,其特征在于:

衬底、衬底接触区、第三有源区、第四有源区为P型掺杂,

阱区、第一有源区、第二有源区、阱接触区为N型掺杂。

4.根据权利要求2所述的静电保护电路,其特征在于:

第四有源区、第二栅极、阱接触区、第一有源区通过接触孔和金属与第二连接端相连,衬底接触区、第二有源区通过接触孔和金属与第一连接端相连。

5.根据权利要求1所述的静电保护电路,其特征在于:其适合于PMOS晶体管的击穿漏源电压低于NMOS晶体管的击穿漏源电压的工艺。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡中感微电子股份有限公司,未经无锡中感微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510947252.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top