[发明专利]用于清洗质谱仪中截取锥的装置在审

专利信息
申请号: 201510947296.2 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN105344648A 公开(公告)日: 2016-02-24
发明(设计)人: 辛娟娟;徐泱;黄红伟 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08;B08B13/00;B08B11/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张亚利;吴敏
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 清洗 质谱仪 截取 装置
【权利要求书】:

1.一种用于清洗质谱仪中截取锥的装置,所述截取锥包括底座和固定在所述底座的上表面的锥头,其特征在于,所述装置包括:

本体;

设置在所述本体的表面上的至少一个清洗槽,所述清洗槽用于盛放清洗液,并至少能容纳所述截取锥的锥头,且所述锥头伸入所述清洗槽内时,所述底座的上表面能与本体接触以使所述本体将底座支撑住。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述清洗槽的开口大小设置为:所述锥头伸入所述清洗槽内时,所述清洗槽的开口所在的表面将所述底座的上表面支撑住。

3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述清洗槽包括沿深度方向依次设置并连通的第一、二段槽,所述清洗槽的开口设置在所述第一段槽上;

所述第一段槽能容纳所述截取锥的底座,所述第二段槽能容纳所述截取锥的锥头,所述第一段槽的开口口径大于所述第二段槽的开口口径,且第二段槽的开口大小设置为:所述锥头伸入所述第二段槽内时,所述第二段槽的开口所在的表面将所述底座的上表面支撑住。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括:设置在所述本体的表面上的导液槽,所述导液槽的开口与清洗槽的开口位于同一表面上,所述导液槽与所述清洗槽连通;

所述导液槽具有入液口和出液口,所述清洗槽内的清洗液适于自所述入液口流向所述导液槽内,最后从所述出液口倒出,所述出液口贯穿所述本体。

5.如权利要求4所述的装置,其特征在于,自所述入液口指向所述出液口的方向上,所述导液槽的深度逐渐减小。

6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括:设置在所述本体的侧面上的手持部,所述手持部供人手持拿所述本体。

7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述手持部为两个背对设置的凹槽。

8.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述本体的材质为PFA。

9.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述清洗槽的大小适于同时容纳至少两个所述锥头。

10.如权利要求1至9任一项所述的装置,其特征在于,所述质谱仪为电感耦合等离子体质谱仪。

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