[发明专利]垂直梳齿驱动MOEMS微镜及其制作方法

权利要求书

1.一种垂直梳齿驱动MOEMS微镜制作方法，其特征在于包括如下步骤：

1)在SOI圆片(2)的结构层(21)的上表面涂敷光刻胶，曝光、显影后在SOI圆片(2)的结构层(21)形成固定梳齿预图形，经刻蚀后形成固定梳齿预结构以及微镜扭转空间；

2)将硅圆片(1)进行氧化，在其上下表面形成氧化层(8)；

3)将氧化后的硅圆片(1)与SOI圆片(2)的结构层(21)的上表面进行硅硅键合；

4)去除SOI圆片(2)的衬底层(23)及中间氧化层(22)；

5)将步骤4)所形成的器件翻转，在翻转后的器件的上表面制备金属层，涂敷光刻胶、曝光、显影后，再经腐蚀工艺形成梳齿驱动电极(3)和金属反射镜面(7)；

6)在上述器件的上表面通过等离子体增强化学气相沉积氧化硅薄膜，作为掩蔽层；

7)在步骤6)所述的掩蔽层表面涂敷光刻胶、光刻、显影，经薄膜腐蚀后形成可动梳齿预掩蔽图形(9)；

8)在步骤7)所形成的预掩蔽图形表面，继续涂敷光刻胶、光刻、显影后形成可动梳齿、扭转梁及微镜镜面光刻胶图形(10)，薄膜腐蚀去除光刻胶未保护的掩蔽层；

9)在步骤8)所形成的图形表面上进行刻蚀工艺，没有光刻胶保护的区域，垂直向下刻蚀形成可动梳齿结构(4)、扭转梁和可动微镜结构(6)；去胶后继续刻蚀，在没有掩蔽层保护的区域，继续垂直刻蚀，将固定梳齿结构(5)暴露出来，腐蚀去除掩蔽层后形成所述MOEMS微镜；

所述硅圆片(1)为双面抛光硅圆片，厚度为400±100μm，SOI圆片(2)的结构层(21)的厚度至少为100μm。

2.如权利要求1所述的垂直梳齿驱动MOEMS微镜制作方法，其特征在于：所述反射镜面层(7)和梳齿驱动电极(3)为铬或金，铬的厚度为10nm-30nm，金的厚度不低于100nm。

3.如权利要求1所述的垂直梳齿驱动MOEMS微镜制作方法，其特征在于：所述步骤9)中的首次刻蚀深度不超过30μm，刻蚀形成的可动梳齿结构(4)的下表面与固定梳齿结构(5)的上表面保持在同一平面。

4.如权利要求1所述的垂直梳齿驱动MOEMS微镜制作方法，其特征在于：所述步骤1)中，经深反应等离子刻蚀DRIE后形成固定梳齿预结构以及微镜扭转空间。

5.如权利要求1所述的垂直梳齿驱动MOEMS微镜制作方法，其特征在于：步骤4)中，采用反应离子刻蚀RIE和湿法腐蚀工艺去除SOI圆片(2)的衬底层(23)及中间氧化层(22)。

6.如权利要求1所述的垂直梳齿驱动MOEMS微镜制作方法，其特征在于：所述步骤9)中，经深反应等离子刻蚀DRIE，垂直向下刻蚀形成可动梳齿结构(4)、扭转梁和可动微镜结构(6)。