[发明专利]一种像素界定结构及制作方法、显示面板及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及有机发光显示技术领域，尤其涉及一种像素界定结构及制作方法、显示面板及显示装置。

背景技术

采用溶液加工制作OLED以及QLED显示器，由于其低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点，是未来显示技术发展的重要方向。其中，印刷技术被认为是实现OLED以及QLED低成本和大面积全彩显示的最有效途径。

在印刷工艺中，由于受设备精度以及液滴尺寸的影响，对于传统的RGBStripe（RGB条状）排列的像素结构（如图1所示），当显示器件的分辨率达到200ppi时，各子像素的宽度会减小到了42μm，同时由于像素界定层的存在，子像素的真实宽度会进一步减小到35μm左右，而对于10pL体积的墨水，其直径就达27μm。如果再进一步提高分辨率，子像素尺寸会进一步减小，就很难控制各子像素内墨水相互独立而不溢出像素坑，因此比较难以实现高分辨显示装置的印刷制备。

因此，需要对子像素的像素界定结构进行改进和优化，使其实现高分辨率显示装置的印刷工艺制备。

因此，现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

鉴于现有技术的不足，本发明目的在于提供一种像素界定结构及制作方法、显示面板及显示装置，通过像素界定层结构的设计，大幅扩大印刷工艺中的墨水沉积区域，防止墨水因单个子像素面积过小引发溢出现象，从而实现高分辨率显示器件的印刷工艺制作。

本发明的技术方案如下：

一种像素界定结构，其中，像素界定结构包括第一像素界定层和位于第一像素界定层上的第二像素界定层，所述一像素界定层具有与各个子像素发光区域一一对应的多个第一开口，所述第二像素界定层为相同颜色子像素列共用的多个第二开口。

所述的像素界定结构，其中，所述第一像素界定层为亲水性薄膜层，所述第二像素界定层为疏水材料薄膜层。

所述的像素界定结构，其中，所述第一像素界定层的厚度为50nm~500nm，所述第二像素界定层的厚度为1000nm~5000nm。

所述的像素界定结构，其中，所述亲水性薄膜层为负性光阻薄膜层，所述疏水性薄膜层为正性光阻薄膜层。

一种像素界定结构的制作方法，其中，包括：

S1、在阵列基板上生成一层亲水性薄膜层，并对其进行曝光显影形成具有与各个子像素的发光区域一一对应的多个开口的第一像素界定层；

S2、在形成有第一像素界定层的阵列基板上生成一层疏水性薄膜层，并对其进行曝光显影形成具有为相同颜色子像素列共用的多个第二开口的第二像素界定层。

所述的像素界定结构的制作方法，其中，所述步骤S1具体包括：

S11、在已经制作TFT阵列及图案化透明阳极的阵列基板上沉积一层亲水性薄膜层；

S12、对亲水性薄膜层进行曝光显影，形成与透明阳极一一对应的开口，形成第一像素界定层。

所述的像素界定结构的制作方法，其中，所述步骤S2之后还包括：

S3、在阵列基板上采用印刷工艺制作各色发光元件。

一种显示面板，其中，所述显示面板包括上面任一项所述的像素界定结构。

所述的显示面板，其中，所述显示面板为OLED或QLED。

一种显示装置，其中，显示装置包括上面所述的显示面板。

本发明提供了一种像素界定结构及制作方法、显示面板及显示装置，本发明在传统的RGBStripe在这基础上，通过采用双层像素界定层，第一层为亲水材料制备，开口与各子像素的发光区域一一对应，定义了各子像素的发光区域，第二层为疏水材料制备，相同颜色子像素列共用一个开口，此层定义了印刷工艺中的墨水沉积区域。通过这种像素结构设计，极大的扩大了墨水的沉积区域，使得墨水不会因单个子像素面积过小而发生溢出，最终实现印刷型高分辨率显示器件的制备。

附图说明

图1为本发明的一种像素界定结构的较佳实施例的结构图。

图2为图1所述像素界定结构Ⅰ-Ⅰ处切面图。

图3为图1所述像素界定结构Ⅱ-Ⅱ处切面图。

图4为本发明的一种像素界定结构的制作方法的较佳实施例的流程图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。