[发明专利]垂直LED芯片结构及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种发光二极管及其制备方法，特别是涉及一种垂直LED芯片结构及其制备方法。

背景技术

相比于传统的GaN基LED正装结构，垂直结构具有散热好，能够承载大电流，发光强度高，耗电量小、寿命长等优点，被广泛应用于通用照明、景观照明、特种照明、汽车照明等领域，成为一代大功率GaN基LED极具潜力的解决方案，正受到业界越来越多的关注和研究。垂直结构剥离了蓝宝石衬底，可直接在外延P型层上布置反射层，器件内部有源区随机射向非出光面的光直接通过反射层反射，通常的反射层为金属反射层或者电介质材料构成的布拉格分布反射层等，避免了由于器件内部有源区随机射向非出光面而造成光抽取效率的降低。但是，反射层通常蒸镀在光滑的ITO透明接触层之上，呈现为镜面反射，这对LED光提取效率的提高有很大的限制。

GaN基LED的光抽取效率受制于GaN与空气之间巨大的折射率差，根据斯涅耳定律，只有入射角在临界角(约23°)以内的光可以出射到空气中，而临界角以外的光只能在GaN内部来回反射，直至被自吸收。为了提高LED的出光效率，图形化衬底在LED的制备中被广泛采用。而垂直结构LED剥离衬底后暴露的N面N-GaN层表面化学性质活泼,易于与KOH或H3PO4发生反应形成微小的金字塔形貌，能显著增大器件内部光的出射几率，而粗化效果的不同对垂直芯片的出光也有显著影响。

因此与传统结构LED一样，垂直结构LED亦面临着如何提高光提取效率的问题。

鉴于以上所述，本发明的目的在于提供一种高亮度垂直LED芯片结构及其制备方法，以明显改善现有垂直芯片N-GaN表面粗化效果不佳的状况，大幅提升垂直芯片光提取效率。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种垂直LED芯片结构及其制备方法，用于解决现有技术中表面粗化效果不佳的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种垂直LED芯片结构的制备方法，所述制备方法包括：步骤1)，提供一生长衬底，于所述生长衬底上依次生长UID-GaN层、N-GaN层、多量子阱层以及P-GaN层；步骤2)，于所述P-GaN层表面形成反射P电极；步骤3)，提供一导电基底，并将该导电基底键合于所述反射P电极上；步骤4)，剥离所述生长衬底；步骤5)，去除所述UID-GaN层，并去除切割道区域的GaN，形成台面图形；步骤6)，采用KOH强碱溶液对所述N-GaN层进行第一次粗化，然后采用显影液弱碱溶液对所述N-GaN层进行第二次粗化，以于N-GaN层表面形成密集的金字塔形貌；以及步骤7)，于所述N-GaN层表面制作N电极。

作为本发明的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤2)制作反射P电极包括以下步骤：步骤2-1)，于所述P-GaN层表面制备欧姆接触的ITO层或Ni层；步骤2-2)，于所述ITO层或Ni层表面制作Ag反射镜；步骤2-3)，于所述Ag反射镜表面制作Au/Sn金属键合层。

作为本发明的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤3)所述的导电基底包括Si衬底、W/Cu衬底及Mo/Cu衬底中的一种。

作为本发明的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤4)采用激光剥离工艺剥离所述生长衬底。

作为本发明的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤5)中，采用ICP刻蚀法去除所述UID-GaN层，并采用ICP刻蚀法去除切割道区域的GaN，所述ICP刻蚀法采用的刻蚀气体包括Cl₂及BCl₃的一种或其混合气体。

作为本发明的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤6)包括：步骤6-1)，采用KOH强碱溶液对所述N-GaN层进行第一次粗化，于所述N-GaN层表面形成初始金字塔，各初始金字塔之间具有N-GaN平面；步骤6-2)，采用显影液弱碱溶液对所述N-GaN层进行第二次粗化，使所述初始金字塔的尺寸逐渐增大形成第一尺寸的金字塔，并于所述N-GaN平面腐蚀出第二尺寸的金字塔，所述第一尺寸的金字塔与第二尺寸的金字塔紧密排布，其中，所述第一尺寸大于所述第二尺寸。

作为本发明的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤6)所述的显影液弱碱溶液为AZ300MIF型显影液。