[发明专利]一种铝锂合金型材生产时表面黑白斑点控制方法在审
申请号: | 201510957743.2 | 申请日: | 2015-12-18 |
公开(公告)号: | CN105483576A | 公开(公告)日: | 2016-04-13 |
发明(设计)人: | 王艳 | 申请(专利权)人: | 西南铝业(集团)有限责任公司 |
主分类号: | C22F1/04 | 分类号: | C22F1/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李海建 |
地址: | 401326 重庆市九龙*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 合金 生产 表面 黑白 斑点 控制 方法 | ||
技术领域
本发明涉及铝锂合金型材生产方法技术领域,特别涉及一种铝锂 合金型材生产时表面黑白斑点控制方法。
背景技术
请参考图1,图1为现有技术中黑白斑点的金相结构示意图。 1420CZ铝锂合金作为一种中高强度,轻质的功能材料,其附加值相 当高。在实际生产过程中该铝锂合金型材表面一直存在黑白斑点现象, 有些呈点状,有些呈无规则块状。用户在使用过程中需对制品进行阳 极氧化,以增强该合金的耐蚀性以及其它性能,而该型材的黑白斑点 影响到后部工序的开展。
因此,如何提供一种铝锂合金型材生产时表面黑白斑点控制方 法,以减少黑白斑点,是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种铝锂合金型材生产时表面黑白斑点控 制方法,以减少黑白斑点。
为解决上述技术问题,本发明提供如下方案:
一种铝锂合金型材生产时表面黑白斑点控制方法,在淬火时缩短 淬火保温时间,其淬火保温时间为20分钟至50分钟。
优选的,上述淬火保温时间为30分钟。
优选的,上述淬火保温时间为20分钟。
优选的,铝锂合金型材的厚度为1.5mm-6mm。
优选的,铝锂合金型材为1420CZ铝锂合金。
上述本发明所提供的铝锂合金型材生产时表面黑白斑点控制方 法,在淬火时缩短淬火保温时间,其淬火保温时间由原先的35分钟到 60分钟相应缩短为20分钟至50分钟。在实际生产中,经小批量投料 生产发现1420CZ铝锂合金型材表面黑白斑点现象主要产生在淬火加 热保温过程中,经多次取样进行相关检测和对比分析,结果均表明黑 白斑点处于铝锂合金脱锂层表层,黑斑区域未见组织差异,也未深入 金属基体,能谱微区分析黑斑部位含O、C、Mg等元素,分析结论认 定为是由于型材在空气炉高温淬火过程中表面脱锂和镁元素氧化而形 成的表面色差现象,是高镁、高锂含量的1420合金所独有的一种特性。 黑白斑点形成的密集度主要跟淬火保温时间有关,通过对淬火制度的 调整,型材表面黑白斑点基本上得到了有效的控制,黑白斑点也能明 显减轻,即在淬火时缩短淬火保温时间,其淬火保温时间为20分钟至 50分钟,能够有效的减少黑白斑点。
附图说明
图1为现有技术中黑白斑点的金相结构示意图;
图2为采用铝锂合金型材生产时表面黑白斑点控制方法后正常的 黑白斑点的金相结构示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的技术人员更好地理解本发明方案,下面结合 附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。
请参考图2,图2为采用铝锂合金型材生产时表面黑白斑点控制 方法后正常的黑白斑点的金相结构示意图。
本发明实施例所提供的铝锂合金型材生产时表面黑白斑点控制 方法,在淬火时缩短淬火保温时间,其淬火保温时间为20分钟至50 分钟。在实际生产中,经小批量投料生产发现1420CZ铝锂合金型材 表面黑白斑点现象主要产生在淬火加热保温过程中,经多次取样进行 相关检测和对比分析,结果均表明黑白斑点处于铝锂合金脱锂层表层, 黑斑区域未见组织差异,也未深入金属基体,能谱微区分析黑斑部位 含O、C、Mg等元素,分析结论认定为是由于型材在空气炉高温淬火 过程中表面脱锂和镁元素氧化而形成的表面色差现象,是高镁、高锂 含量的1420合金所独有的一种特性。黑白斑点形成的密集度主要跟淬 火保温时间有关,通过对淬火制度的调整,型材表面黑白斑点基本上 得到了有效的控制,黑白斑点也能明显减轻,即在淬火时缩短淬火保 温时间,其淬火保温时间为20分钟至50分钟,能够有效的减少黑白 斑点。
为了进一步优化上述方案,淬火保温时间根据型材壁厚以及装炉 量相应减少10~30min,淬火保温时间的时间节点可以为20分钟或者 30分钟,一般,铝锂合金型材的厚度为1.5mm-6mm时采用淬火保温 时间为20分钟至50分钟时间最佳。其中,铝锂合金型材可以为1420CZ 铝锂合金。
本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述, 以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应 当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理 的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也 落入本发明权利要求的保护范围内。
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