[发明专利]防尘薄膜组件有效
申请号: | 201510958619.8 | 申请日: | 2015-12-18 |
公开(公告)号: | CN105739234B | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 关原一敏 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F1/64 |
代理公司: | 11280 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王勇;王博<国际申请>=<国际公布>=< |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 防尘 薄膜 组件 | ||
1.一种防尘薄膜组件,由长边和短边形成的矩形的防尘薄膜组件框架构成,其特征在于,在所述防尘薄膜组件框架上掩模粘着层至少在2处形成的同时,各掩模粘着层之间的领域无间隙地形成由非粘着性的树脂构成的弹性体层。
2.根据权利要求1的防尘薄膜组件,其特征在于,所述掩模粘着层在所述长边和所述短边的任一方或者两方的各边的至少1处上形成。
3.根据权利要求1或者2上所述的防尘薄膜组件,其特征在于,所述掩模粘着层的形成部位含有防尘薄膜组件框架的角部。
4.根据权利要求1或者2上所述的防尘薄膜组件,其特征在于,所述掩模粘着层,仅在所述防尘薄膜组件框架的直线部分形成。
5.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件,其特征在于,所述掩模粘着层,其沿着防尘薄膜组件框架内侧的长度的总和为所述防尘薄膜组件框架的内周长的10%至70%的范围。
6.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件,其特征在于,所述掩模粘着层,其各个表面被加工为平面度30μm以下。
7.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件,其特征在于,所述掩模粘着层,各个的厚度为最大值和最低值的差为0.1mm以下。
8.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件,其特征在于,所述弹性体层,在将其表面加工为平面度30μm以下的同时,与所述掩模粘着层的表面为同一平面。
9.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件,其特征在于,所述弹性体层,所述弹性体层,其硬度为硬度计硬度A50以下。
10.根据权利要求1或者2所述的防尘薄膜组件,其特征在于,所述弹性体层,其材质从由SBS树脂,SEBS树脂,SEPS树脂,氟系树脂,有机硅树脂以及氟改性有机硅树脂构成的群中选择。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信越化学工业株式会社,未经信越化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510958619.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:滑动部件、处理盒、以及成像装置
- 下一篇:显示面板、显示装置及其制作方法
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备