[发明专利]半导体基板及其制造方法、太阳能电池元件、以及太阳能电池在审
申请号: | 201510959055.X | 申请日: | 2012-07-24 |
公开(公告)号: | CN105448677A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 佐藤铁也;吉田诚人;野尻刚;町井洋一;岩室光则;织田明博 | 申请(专利权)人: | 日立化成株式会社 |
主分类号: | H01L21/225 | 分类号: | H01L21/225;H01L31/0224;H01L31/068;H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 及其 制造 方法 太阳能电池 元件 以及 | ||
1.一种半导体基板,其具有半导体层和杂质扩散层,
所述杂质扩散层含有:选自K、Na、Li、Ba、Sr、Ca、Mg、Be、Zn、Pb、Cd、V、Sn、Zr、Mo、La、Nb、Ta、Y、Ti、Zr、Ge、Te及Lu中的至少一种金属原子;以及选自n型杂质原子及p型杂质原子中的至少一种杂质原子。
2.如权利要求1所述的半导体基板,其中,所述杂质扩散层的表面的所述金属原子的含量为1×1017atoms/cm3以上。
3.如权利要求1或2所述的半导体基板,其中,所述n型杂质原子为选自磷P及锑Sb中的至少一种。
4.如权利要求1或2所述的半导体基板,其中,所述p型杂质原子为选自硼B及镓Ga中的至少一种。
5.如权利要求1~3中任一项所述的半导体基板,其中,所述杂质扩散层包含n型杂质原子且通过对被赋予到所述半导体层的至少一个面上的玻璃粉末进行热处理而形成,
所述玻璃粉末包含含有n型杂质的物质和玻璃成分物质,
所述含有n型杂质的物质选自P2O3、P2O5及Sb2O3中的至少一种,
所述玻璃成分物质选自SiO2、K2O、Na2O、Li2O、BaO、SrO、CaO、MgO、BeO、ZnO、PbO、CdO、V2O5、SnO、ZrO2及MoO3中的至少一种。
6.如权利要求1、2或4所述的半导体基板,其中,所述杂质扩散层包含p型杂质原子且通过对被赋予到所述半导体层的至少一个面上的玻璃粉末进行热处理而形成,
所述玻璃粉末包含含有p型杂质的物质和玻璃成分物质,
所述含有p型杂质的物质选自B2O3及Ga2O3中的至少一种,
所述玻璃成分物质选自SiO2、K2O、Na2O、Li2O、BaO、SrO、CaO、MgO、BeO、ZnO、PbO、CdO、V2O5、SnO、ZrO2及MoO3中的至少一种。
7.一种太阳能电池元件,其具备权利要求1~6中任一项所述的半导体基板、和配置在所述杂质扩散层上的电极。
8.一种太阳能电池,其具备权利要求7所述的太阳能电池元件、和配置在所述电极上的布线材料。
9.一种权利要求1~6中任一项所述的半导体基板的制造方法,其具有:
在半导体层的至少一个面上赋予含有玻璃粉末和分散介质的杂质扩散层形成用组合物的工序,所述玻璃粉末包含选自n型杂质原子及p型杂质原子中的至少一种杂质原子;和
对所述赋予后的杂质扩散层形成用组合物进行热扩散处理而形成杂质扩散层的工序。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造