[发明专利]评价植物根系对污染物垂直方向生长回避的装置及方法

权利要求书

1.一种评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置，其特征在于，包括壳体、分隔件、导轨、扫描设备和驱动件，所述壳体包括基底和设置于基底上的侧壁，所述基底和侧壁使壳体形成具有开口的容腔，所述分隔件设置于壳体内且数目为两个以上，所述分隔件上设有通孔，所述通孔中设有琼脂层，两个以上的所述分隔件分别沿基底至开口方向设置在侧壁上并将所述容腔分隔形成两个以上密闭的子容腔，所述导轨沿侧壁四周方向设置于壳体外，所述扫描设备可滑动的设置于导轨上，所述驱动件驱动扫描设备沿导轨滑动。

2.根据权利要求1所述的评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置，其特征在于，还包括转换器、控制器和数据输出设备，所述转换器与扫描设备电连接，所述转换器、控制器和数据输出设备分别依次电连接。

3.根据权利要求2所述的评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置，其特征在于，所述转换器为USB转换器，所述数据输出设备为计算机，所述扫描设备为光学扫描仪，所述驱动件为电机。

4.根据权利要求1所述的评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置，其特征在于，所述分隔件为网状结构，所述琼脂层设置于网状结构的所述分隔件上的网孔中。

5.根据权利要求1所述的评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置，其特征在于，所述分隔件的材质为尼龙。

6.根据权利要求1所述的评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置，其特征在于，所述子容腔的数目为3-5个。

7.根据权利要求1所述的评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置，其特征在于，所述壳体的材质为透明材料。

8.根据权利要求1所述的评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置，其特征在于，还包括罩子，所述罩子罩设于壳体外部，所述罩子的颜色为深色。

9.一种评价植物根系对污染物垂直生长回避的方法，其特征在于，包括权利要求1-8任意一项所述的评价植物根系对污染物垂直生长回避的装置，并包括以下步骤：将土壤或植物营养液分别放入两个以上的所述子容腔内，然后于两个以上的所述子容腔内分别放置不同浓度的污染物，将待测试植物的根系分散并分别伸入两个以上的所述子容腔内，通过驱动件驱动扫描设备沿导轨滑动，从而扫描获得待测试植物根系在壳体内的分布信息。