[发明专利]一种大理石花纹瓷器的生产工艺在审
申请号: | 201510970322.3 | 申请日: | 2015-12-17 |
公开(公告)号: | CN105541408A | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 彭友才 | 申请(专利权)人: | 安徽省含山民生瓷业有限责任公司 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86;C03C8/00;C03C8/14 |
代理公司: | 安徽信拓律师事务所 34117 | 代理人: | 吴奇 |
地址: | 238100 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大理石 花纹 瓷器 生产工艺 | ||
技术领域:
本发明涉及陶瓷技术领域,具体是一种大理石花纹瓷器的生产工艺。
背景技术:
陶瓷则是陶器,炻器和瓷器的总称。凡是用陶土和瓷土这两种不同性质 的粘土为原料,经过配料、成型、干燥、焙烧等工艺流程制成的器物都可以 叫陶瓷。现有的瓷器的生产工艺都是外部施加了釉料,现有技术中釉料的颜 色主要是靠增加颜料的含量,然后颜料对称瓷器的强度、硬度等具有一定的 不利影响,颜色不纯正,而且现有的工艺生产出来的瓷器,脆性很大,容易 崩裂。
发明内容:
本发明所要解决的技术问题在于提供一种上釉简单,强度高,脆性小, 不容易碎裂,颜色纯正的大理石花纹瓷器的生产工艺。
解决的技术问题所采用以下的技术方案:
一种大理石花纹瓷器的生产工艺,其特征在于:包括以下步骤,制浆、 制作模具、成型灌注、上釉、烧结和检验,
所述的上釉是分别取地皮釉和花纹釉分别调好浓度,其中地皮釉浓度为 44~47°Be,黑色花纹釉浓度为42~45°Be;然后,将荡好白釉的坯件采用 浸釉的方法上外釉,具体为先将地皮釉搅拌均匀,再将调好的黑色花纹釉一 匙一匙地滴入地皮釉内,然后用木棒轻轻地搅动3—4转,视釉出现花纹时, 将坯体立即浸入,浸好取出。
所述的烧结经过两次,第一次烧结温度为800~1100℃,持续时间为8~ 10小时,然后缓慢冷却,第二次烧结温度为1200~1300℃,持续时间为6~ 10小时,再次进行冷却。
所述的烧结前分别进行预热处理,第一次烧结前在1~2个小时内将烧结 温度加热到300~400℃,保温半小时,然后在1小时内将温度快速增加到第 一次烧结的温度,第二次烧结前在2~3个小时内将烧结温度加热到500~ 600℃,保温半小时,然后在1小时内将温度快速增加到第二次烧结的温度。
所述的地皮釉按重量份由以下组分制成,石灰釉90.5、二氧化钛0.2、 大王塘泥5、塞子岭泥4.5。
所述的黑色花纹釉中的黑色剂为三氧化二铁、四氧化三钴、锰酸钾和炭 黑的组合物,三氧化二铁、四氧化三钴、锰酸钾和炭黑的比例为4:2:1:1。
本发明中的原料组分制成的瓷器强度高,脆性小,且生产出的瓷器成纯 青色,不容易崩裂。本发明中的瓷器中起到釉料中颜色纯正,为红色,强度 高。
本发明分阶段的进行烧结,避免一次性烧结导致瓷器的内应力过大,脆 性高,容易崩裂的特点。本发明中的烧结温度、时间控制的更为合理。
本发明的有益效果是:本发明生产的方法简单,强度高,脆性小,不容 易碎裂,颜色纯正。
具体实施方式:
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了 解,下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。
一种大理石花纹瓷器的生产工艺,包括以下步骤,制浆、制作模具、成型 灌注、上釉、烧结和检验,
上釉是分别取地皮釉和花纹釉分别调好浓度,其中地皮釉浓度为44~47° Be,黑色花纹釉浓度为42~45°Be;然后,将荡好白釉的坯件采用浸釉的方 法上外釉,具体为先将地皮釉搅拌均匀,再将调好的黑色花纹釉一匙一匙地 滴入地皮釉内,然后用木棒轻轻地搅动3—4转,视釉出现花纹时,将坯体立 即浸入,浸好取出。
烧结经过两次,第一次烧结温度为800~1100℃,持续时间为8~10小时, 然后缓慢冷却,第二次烧结温度为1200~1300℃,持续时间为6~10小时, 再次进行冷却。
烧结前分别进行预热处理,第一次烧结前在1~2个小时内将烧结温度加 热到300~400℃,保温半小时,然后在1小时内将温度快速增加到第一次烧 结的温度,第二次烧结前在2~3个小时内将烧结温度加热到500~600℃,保 温半小时,然后在1小时内将温度快速增加到第二次烧结的温度。
地皮釉按重量份由以下组分制成,石灰釉90.5、二氧化钛0.2、大王塘 泥5、塞子岭泥4.5。
黑色花纹釉中的黑色剂为三氧化二铁、四氧化三钴、锰酸钾和炭黑的组 合物,三氧化二铁、四氧化三钴、锰酸钾和炭黑的比例为4:2:1:1。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行 业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明 书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下, 本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范 围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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