[发明专利]堵漏装置在审
申请号: | 201510971893.9 | 申请日: | 2015-12-22 |
公开(公告)号: | CN105423060A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 沈祖宏 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | F16L55/17 | 分类号: | F16L55/17 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 堵漏 装置 | ||
技术领域
本发明涉及管道漏液的维修,特别涉及一种在不影响管道内液体流通的情况下进行漏液封堵的堵漏装置。
背景技术
由于PVC排水管良好的耐酸碱性,在半导体工厂中大量使用PVC排水管用于酸碱性废水的排放。PVC水管本身材质相对较脆,容易受到机械损伤而且PVC排水管一般采用胶水进行管道连接,长时间使用后粘结处长期接触酸碱性液体可能导致渗漏。
目前酸碱性排水的PVC水管发生泄漏后通常采取停水更换配件的方式进行修理,而半导体工厂中的停水往往意味着需要将机台关闭造成生产停止,同时,由于半导体生产设备长期处于开机状态,停机后需要较长时间来恢复,降低了设备的使用率,会造成额外的潜在经济损失。如果是区域性的排水管道会连接多台设备,如果停机需花费更多时间,造成更大的经济损失。
基于上述原因,需要一种能够在酸碱性排水不停止的状态下进行PVC管道的堵漏方法。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种堵漏装置,用于在不影响管道内液体流通的情况下进行堵漏。
为解决上述问题,本发明所述的堵漏装置,包含:
盖体,包含一上盖体和一下盖体形成一组,所述上盖体呈半圆柱形,在上盖体的内壁,首尾两端均设置有沟槽形成两容纳空间;
所述下盖体,呈半圆柱形,在下盖体的内壁,首尾两端均设置有沟槽形成两容纳空间;
前后端盖,均为半环形片状,分为两对4片,其中一对用于上盖体,另一对用于下盖体;所述端盖是卡合于上下盖体的沟槽中,再上盖与下盖盖合时形成一中空的圆柱体,两前端盖与两后端盖中间形成圆形开口。
所述两前端盖与两后端盖中间形成圆形开口的直径为发生泄露的管道的外径。
所述一组盖体能搭配多组不同开口孔径的前后端盖,以应对不同直径的管道。
所述下盖体上还能设置开口并焊接排水管。
所述排水管上还设置有阀门。
所述各组件采用PVC或其他易焊接且耐压、耐酸碱腐蚀的材料制成。
本发明所述的堵漏装置,通过包含前后端片的上下盖体,盖合在发生漏液的管道处,再以热风焊枪焊接,能在不阻断管道内液体流通的情况下进行漏液的封堵,不影响正常生产。
附图说明
图1是本发明堵漏装置结构示意图;
图2是本发明堵漏装置使用状态图。
具体实施方式
本发明所述的堵漏装置,包含有如图1所示的组合体:
盖体,包含一上盖体和一下盖体形成一组,所述上盖体呈半圆柱形,在上盖体的内壁,首尾两端均设置有沟槽形成两容纳空间;所述下盖体,呈半圆柱形,在下盖体的内壁,首尾两端均设置有沟槽形成两容纳空间;
前后端盖,均为半环形片状,分为两对4片,其中一对用于上盖体,另一对用于下盖体;所述端盖是卡合于上下盖体的沟槽中,再上盖与下盖盖合时形成一中空的圆柱体,两前端盖与两后端盖中间形成圆形开口。
所述两前端盖与两后端盖中间形成圆形开口的直径为发生泄露的管道的外径。所述一组盖体能搭配多组不同开口孔径的前后端盖,以应对不同直径的管道。
所述的上下盖体及前后端盖均可有PVC制成,或其他易焊接且耐压、耐酸碱腐蚀的材料制成。
所述下盖体上还能设置开口并焊接排水管,并在排水管上安装阀门。
在PVC管道发生泄漏时,将上盖体组合前后端盖覆盖在漏液管道泄漏处的上方,将下盖体组合前后端盖组合于泄露处的下方,漏液管道从前后端盖组合之后形成的中间圆形开口处穿过,各组件在管道泄露处形成一包裹管道的密封腔体。利用PVC焊机或热风枪使用PVC焊条将几个组件在泄漏处焊接为一个整体,包括图2中箭头所示的焊缝(前后端片与漏液管道之间)。使用不同孔径的前后端盖可用于封堵不同管径的水管(不超过上下盖组合后的前后端盖开口孔径,否则难以组合形成密封腔体)。由于PVC焊接必须在无水状态下进行,如果泄露量过大影响焊接,因此可以在下盖体上安装排水管及排水阀门,堵漏装置在泄漏点组合成整体但还未进行焊接时将排水阀打开,将管道泄漏的酸碱废水排入废液接收装置,排水管及排水阀门的通过能力应该足够应付渗漏量,满足焊接期间排水的要求,保持堵漏装置内不要满水。当焊接完成后关闭排水阀,并在末端安装闷头,将其完全封闭,完成封堵泄漏点的任务。本堵漏装置可在不停止管道供液的情况下对泄漏处进行封堵,整个装置采用PVC或其他易焊接且耐压、耐酸碱腐蚀的材料制成,满足耐压性需求。
以上仅为本发明的优选实施例,并不用于限定本发明。对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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