[发明专利]一种光降解聚氯乙烯地膜制作方法及产品

权利要求书

1.一种光降解聚氯乙烯地膜制作方法，其特征在于：包括以下步骤

制备氧化石墨：以石墨粉为原料制备氧化石墨；

制备石墨烯：取一定量的氧化石墨放入去离子水，超声处理１～３小时，将获得的溶液水浴加热，水浴温度控制在75～85℃；加入3～10g硼氢化钠还原，将最后的混合容易洗涤、抽滤、干燥后得到石墨烯粉末；

制备复合膜：取氧化石墨或石墨烯放入水中，超声处理１～３小时，加入聚氯乙烯和二氯乙烷强力搅拌5～8小时得到混合溶液，将混合溶液平铺在光滑面板上，烘干成型得到氧化石墨聚氯乙烯复合膜或石墨烯聚氯乙烯复合膜。

2.根据权利要求1所述的一种光降解聚氯乙烯地膜制作方法，其特征在于：所述制备氧化石墨步骤如下：

按重量份计将石墨粉15～30份、过硫酸钾5～15份和五氧化二磷10～15份的混合物加入到浓硫酸中，所述浓硫酸的温度为75～90℃；

将上述混合溶液搅拌均匀，冷却5～8小时；

过滤后洗涤混合物至中性，干燥待用；

将上述干燥混合物加入到浓硫酸中，再加入40～60份高锰酸钾，然后进行30～45℃油浴，保持2～3小时；

向上述溶液中加入离子水，所述离子水分三次加入，每次间隔时间为20～30分钟；

过滤上述混合物，用浓度为10％的盐酸进行洗涤、抽滤、干燥得到氧化石墨。

3.根据权利要求2所述的一种光降解聚氯乙烯地膜制作方法，其特征在于：所述浓硫酸的浓度为80%～95%。

4.根据权利要求1所述的一种光降解聚氯乙烯地膜制作方法，其特征在于：所述制备石墨烯步骤中氧化石墨与去离子水形成的混合溶液中氧化石墨的浓度为（0.002～0.005）g/ml。

5.根据权利要求1所述的一种光降解聚氯乙烯地膜制作方法，其特征在于；所述聚氯乙烯和二氯乙烷的混合溶液聚氯乙烯的浓度为0.1g/ml。

6.根据权利要求5所述的一种光降解聚氯乙烯地膜制作方法，其特征在于：所述氧化石墨或石墨烯与聚氯乙烯的质量之比为（1～2）：500。

7.根据权利要求1至6制作的一种光降解聚氯乙烯地膜，其特征在于：按重量份计包括以下成分；聚氯乙烯250～500份，氧化石墨1～2份，二氯乙烷30～75份。

8.根据权利要求1至6制作的一种光降解聚氯乙烯地膜，其特征在于：按重量份计包括以下成分；聚氯乙烯250～500份，石墨烯1～2份，二氯乙烷30～75份。