[发明专利]一种全抛釉熔块及其制备方法

说明书

本发明公开了一种全抛釉熔块及其制造方法，制备该熔块的原材料包括石英、非煅烧氧化铝、硅灰石、钾长石、白云母、纯碱和细粉，通过混合、熔化、水淬、烘干、破碎等步骤制备而成。该全抛釉熔块搭配生料使用提高了釉料的硬度与耐磨度以及釉层的透明度，而且使釉料的始熔点提高，能够减少或避免气孔的产生。

技术领域

本发明属于陶瓷领域，具体涉及一种全抛釉熔块及其制备方法。

背景技术

伴随着物质和文化的日益丰富化，人们对瓷砖提出了更高的要求。近几年，瓷砖市场竞争变的异常激烈，全抛釉瓷砖是瓷砖领域的佼佼者，持续被消费者所关注。全抛釉瓷砖表面釉层经过抛光处理后，表面光亮、色泽匀称、其图案丰富、极具个性化设计，装修时使得房屋更加高雅且舒适，能给人带来极大的愉悦体验。但全抛釉也有自身的缺陷，全抛釉瓷砖防污能力较弱，并且釉面太薄，非常容易磨损、刮花。解决全抛釉的上述缺陷，一直是瓷砖业界比较热门的研究课题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种烧制成品的硬度与耐磨度更高，针孔与气孔更少的全抛釉熔块及其制备方法。

本发明所采取的技术方案是：

一种全抛釉熔块，按质量份计，其主要的化学组成如下：SiO₂ 40～50份，Al₂O₃ 20～25份，Fe₂O₃<0.1份，TiO₂ <0.01份，CaO 20～30份，MgO 0～7份，K₂O0～2份，ZnO <0.1份，Na₂O <0.1份，B₂O₃ <0.1份。

作为优选的，所述熔块主要由下述原料制备而成：石英、非煅烧氧化铝、硅灰石、钾长石、白云石、纯碱和细粉。

作为优选的，所述熔块主要由以下质量份的原材料制备而成：石英20～30份、非煅烧氧化铝15～20份、白云石25～30份、硅灰石20～35份、钾长石7～12份、纯碱0～1份、细粉2～5份。

作为优选的，所述熔块主要由以下质量份的原材料制备而成：石英20份、非煅烧氧化铝19份、白云石25份、硅灰石20份、钾长石10份、纯碱1份、细粉5份。

一种全抛釉熔块的制备方法，包括以下步骤：

（1）称取原料，混合均匀；

（2）在1500~1600℃温度下熔融，保温2~3小时；

（3）放料水淬、烘干、破碎得到全抛釉熔块；

所述全抛釉熔块的组成如上所示。

本发明的有益效果是：

（1）提高了全抛釉的硬度与耐磨度。首先，熔块具有较高的硅含量，使得玻璃中网络形成体越多，致使形成的玻璃结构更紧密坚硬，同时耐磨度也越高。其次，熔块中氧化铝的含量较高，熔块中的Al₂O₃是场强较大的玻璃中间体和形成体，高温时Al³⁺可以夺取非桥氧形成铝氧四面体进入硅氧网络之中，把断网重新连接起来，使玻璃结构趋向更紧密。

（2）熔块的高始熔点。高始熔点具备始熔温度较高，熔平温度较低的特点。这个特点利于有机盐充分的排出，避免针孔、气泡等缺陷，提高釉面性能。同时也有利于坯体的烧结，不易黑心。熔块具备高始熔点，可以实现增加砖升温速度，提高生产效率。